一种铟镓锌氧化物半导体薄膜和铟镓锌氧化物TFT制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201410040761.X
申请日
2014-01-27
公开(公告)号
CN103779425B
公开(公告)日
2014-05-07
发明(设计)人
方汉铿 谢应涛 蔡述澄 欧阳世宏 石强
申请人
申请人地址
200240 上海市闵行区东川路800号
IPC主分类号
H01L29786
IPC分类号
H01L2906 H01L21336
代理机构
上海旭诚知识产权代理有限公司 31220
代理人
郑立
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
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[3]
蚀刻液、蚀刻方法及铟镓锌氧化物半导体器件 [P]. 
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[4]
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孙红波 ;
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[5]
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[7]
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[9]
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[10]
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