一种低泡且蚀刻均匀的蚀刻液

被引：0

申请号：

CN202111544337.5

申请日：

2021-12-16

公开(公告)号：

CN114350367A

公开(公告)日：

2022-04-15

发明(设计)人：

张庭李金航贺兆波武昊冉李鑫欧阳克银蒋瑜瑜

申请人：

申请人地址：

443007 湖北省宜昌市猇亭区猇亭大道66-3号

IPC主分类号：

C09K1308

IPC分类号：

代理机构：

宜昌市三峡专利事务所 42103

代理人：

王玉芳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-04-15	公开	公开
2022-05-03	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 13/08 申请日:20211216

共 50 条

[1]

一种高选择性且低泡的蚀刻液 [P].

许真 ;

张庭 ;

贺兆波 ;

李金航 ;

武昊冉 ;

李誉 ;

董攀飞 ;

叶瑞 ;

罗海燕 ;

刘春丽 .

中国专利 :CN116218528B ,2025-04-22

[2]

一种蚀刻液的配方及其应用 [P].

唐浩东 ;

王志阳 ;

尚宇飞 .

中国专利 :CN117757477A ,2024-03-26

[3]

一种提高凹型沟槽结构二氧化硅蚀刻均匀性的蚀刻液 [P].

张庭 ;

贺兆波 ;

李金航 ;

李鑫 ;

尹印 ;

万杨阳 ;

武昊冉 .

中国专利 :CN114369460A ,2022-04-19

[4]

一种BOE蚀刻液的制备方法 [P].

王海 ;

田志扬 ;

张晓东 ;

潘绍忠 ;

张学良 ;

韩虹羽 ;

魏俊明 .

中国专利 :CN103756680A ,2014-04-30

[5]

一种提高氮化硅蚀刻均匀性的酸性蚀刻液 [P].

李少平 ;

张庭 ;

郝晓斌 ;

贺兆波 ;

冯凯 ;

王书萍 ;

尹印 ;

万杨阳 ;

张演哲 .

中国专利 :CN110878208A ,2020-03-13

[6]

一种BOE蚀刻液 [P].

董俊卿 ;

徐倩 ;

卢景煜 .

中国专利 :CN111892931A ,2020-11-06

[7]

一种二氧化硅薄膜的蚀刻液 [P].

张庭 ;

贺兆波 ;

郝晓斌 ;

王书萍 ;

万杨阳 ;

李鑫 ;

景继磊 .

中国专利 :CN111471463B ,2020-07-31

[8]

一种高蚀刻均匀性的缓冲氧化物蚀刻液 [P].

许真 ;

张庭 ;

贺兆波 ;

李金航 ;

武昊冉 ;

董攀飞 ;

蒲帅 ;

杨翠翠 ;

陈小超 ;

陈麒 ;

刘春丽 .

中国专利 :CN119685022A ,2025-03-25

[9]

一种高选择性的缓冲氧化物蚀刻液 [P].

李金航 ;

李鑫 ;

张庭 ;

贺兆波 ;

尹印 ;

冯凯 ;

王书萍 ;

万杨阳 ;

钟昌东 ;

武昊冉 ;

罗海燕 .

中国专利 :CN114891509A ,2022-08-12

[10]

一种BOE蚀刻液组合物 [P].

王海 ;

田志扬 ;

潘绍忠 ;

张晓东 ;

张学良 ;

傅明星 ;

王瑞 .

中国专利 :CN103756681A ,2014-04-30

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