金属氧化物的等离子体增强化学气相沉积

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580016213.2

申请日：

2005-05-20

公开(公告)号：

CN1957109A

公开(公告)日：

2007-05-02

发明(设计)人：

D·P·迪内加 C·M·魏卡特

申请人：

申请人地址：

美国密歇根州

IPC主分类号：

C23C1640

IPC分类号：

C23C1650

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

程伟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-05-02	公开	公开
2007-07-18	实质审查的生效	实质审查的生效
2012-07-11	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101412331537 IPC(主分类):C23C 16/40 专利申请号:2005800162132 公开日:20070502

共 50 条

[1]

金属氧化物层形成方法和等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

高东均 ;

金友镇 ;

金仁教 ;

朴瑾禧 ;

郑石源 .

中国专利 :CN109385617A ,2019-02-26

[2]

由等离子体增强化学气相沉积的耐磨涂层 [P].

A·M·加贝尔尼克 ;

C·A·兰伯特 ;

J·M·瓦拉科姆斯基 ;

L·M·阿尔特斯 .

中国专利 :CN101048533A ,2007-10-03

[3]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

姜杉 ;

李建东 ;

杨志永 .

中国专利 :CN201587981U ,2010-09-22

[4]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

欧阳亮 .

中国专利 :CN120231033A ,2025-07-01

[5]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

张佳纯 .

中国专利 :CN107675144A ,2018-02-09

[6]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

陈金元 ;

刘传生 .

中国专利 :CN101974738A ,2011-02-16

[7]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

韦刚 .

中国专利 :CN101880867A ,2010-11-10

[8]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

吴斌 .

中国专利 :CN222935510U ,2025-06-03

[9]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

苏同上 ;

王东方 ;

杜生平 ;

袁广才 .

中国专利 :CN205556778U ,2016-09-07

[10]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

洪性喆 ;

李万镐 .

中国专利 :CN104769156A ,2015-07-08

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