半导体栅极结构

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201920184600.6
申请日
2019-01-31
公开(公告)号
CN209401624U
公开(公告)日
2019-09-17
发明(设计)人
高玮
申请人
申请人地址
230000 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
IPC主分类号
H01L27108
IPC分类号
H01L29423
代理机构
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
智云
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体栅极结构及其制备方法 [P]. 
高玮 .
中国专利 :CN111261632A ,2020-06-09
[2]
半导体栅极结构 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN208674126U ,2019-03-29
[3]
栅极半导体结构 [P]. 
蔡镇宇 .
中国专利 :CN118231454A ,2024-06-21
[4]
半导体结构/栅极结构制备方法、半导体结构及栅极结构 [P]. 
张冲 .
中国专利 :CN117766380A ,2024-03-26
[5]
半导体装置的栅极结构 [P]. 
萨恩迪普·巴尔 ;
U·拉达克里希纳 ;
徐昌秀 .
美国专利 :CN119698024A ,2025-03-25
[6]
半导体栅极结构的制备方法及半导体结构 [P]. 
胡迎宾 ;
郭廷晃 ;
郭哲劭 ;
王涛涛 .
中国专利 :CN119069345B ,2025-03-18
[7]
半导体栅极结构的制备方法及半导体结构 [P]. 
胡迎宾 ;
郭廷晃 ;
郭哲劭 ;
王涛涛 .
中国专利 :CN119069345A ,2024-12-03
[8]
屏蔽栅极沟槽半导体结构与屏蔽栅极沟槽半导体器件 [P]. 
刘坚 .
中国专利 :CN113889536B ,2025-01-24
[9]
屏蔽栅极沟槽半导体结构与屏蔽栅极沟槽半导体器件 [P]. 
刘坚 .
中国专利 :CN113889536A ,2022-01-04
[10]
栅极结构、具有栅极结构的半导体器件及形成栅极结构和半导体器件的方法 [P]. 
尹在万 ;
朴东健 ;
李忠浩 ;
吉田诚 ;
李哲 .
中国专利 :CN1658401A ,2005-08-24