浆料组合物以及基材抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480023622.4

申请日：

2014-04-25

公开(公告)号：

CN105308129B

公开(公告)日：

2016-02-03

发明(设计)人：

北村启增田刚松村义之

申请人：

申请人地址：

日本三重县

IPC主分类号：

C09D500

IPC分类号：

C09D700 C09G100

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

宋莉

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-09-10	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C09D 5/00 变更事项:专利权人变更前:日本嘉柏微电子株式会社变更后:CMC材料株式会社变更事项:地址变更前:日本三重县变更后:日本三重县
2016-02-03	公开	公开
2016-03-02	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101649094383 IPC(主分类):C09D 5/00 专利申请号:2014800236224 申请日:20140425
2018-01-16	授权	授权

共 50 条

[1]

浆料组合物、漂洗组合物、基板抛光方法以及漂洗方法 [P].

增田刚 ;

北村启 ;

松村义之 .

中国专利 :CN107075309A ,2017-08-18

[2]

用于金属的化学机械抛光的浆料组合物以及使用其的抛光方法 [P].

周霍摩 ;

金元来 ;

卢钟一 ;

李仁庆 ;

李泰永 .

中国专利 :CN101821354A ,2010-09-01

[3]

抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法 [P].

高见信一郎 .

中国专利 :CN1760307B ,2006-04-19

[4]

浆料组合物、软质抛光垫及其制备方法 [P].

阮波 ;

王磊 ;

郭纯 ;

刘志强 ;

张开登 ;

郭明亮 .

中国专利 :CN118725709A ,2024-10-01

[5]

CMP浆料组合物及抛光方法 [P].

申东穆 ;

崔银美 ;

曹升范 .

中国专利 :CN102648265A ,2012-08-22

[6]

抛光浆料组合物 [P].

林世镇 ;

孔铉九 ;

黄珍淑 ;

金伦秀 .

韩国专利 :CN120882821A ,2025-10-31

[7]

抛光浆料组合物 [P].

黄珍淑 ;

孔铉九 ;

金伦秀 .

中国专利 :CN114644889A ,2022-06-21

[8]

抛光浆料组合物 [P].

崔洛炫 ;

金廷润 ;

梁海元 ;

崔秀完 .

中国专利 :CN113195659A ,2021-07-30

[9]

抛光浆料组合物 [P].

黄珍淑 ;

孔铉九 ;

金伦秀 .

韩国专利 :CN114644889B ,2024-03-12

[10]

用于抛光多层膜的化学机械抛光浆料组合物 [P].

金智慧 ;

崔辅爀 ;

李在祐 ;

李在益 .

中国专利 :CN112210301A ,2021-01-12

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