浆料组合物以及基材抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480023622.4

申请日：

2014-04-25

公开(公告)号：

CN105308129B

公开(公告)日：

2016-02-03

发明(设计)人：

北村启增田刚松村义之

申请人：

申请人地址：

日本三重县

IPC主分类号：

C09D500

IPC分类号：

C09D700 C09G100

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

宋莉

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-09-10	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C09D 5/00 变更事项:专利权人变更前:日本嘉柏微电子株式会社变更后:CMC材料株式会社变更事项:地址变更前:日本三重县变更后:日本三重县
2016-02-03	公开	公开
2016-03-02	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101649094383 IPC(主分类):C09D 5/00 专利申请号:2014800236224 申请日:20140425
2018-01-16	授权	授权

共 50 条

[21]

低污染抛光组合物 [P].

T·M·托马斯 ;

王红雨 .

中国专利 :CN101525522A ,2009-09-09

[22]

用于选择性地抛光基材的湿法铈土组合物、以及与其相关的方法 [P].

B.赖斯 .

中国专利 :CN105829487B ,2016-08-03

[23]

用于对钨进行抛光的化学机械抛光浆料组合物以及使用其对钨进行抛光的方法 [P].

李义郞 ;

卢健培 ;

朴泰远 ;

李知虎 ;

吴炳昌 ;

白智元 ;

郑雅琳 ;

张根三 .

韩国专利 :CN120272914A ,2025-07-08

[24]

化学机械抛光用浆料以及使用其的基板的抛光方法 [P].

竹越穣 ;

加藤充 ;

冈本知大 ;

加藤晋哉 .

中国专利 :CN102666760B ,2012-09-12

[25]

对铜进行抛光的化学机械抛光浆料组合物及铜膜抛光方法 [P].

沈秀姸 ;

李知虎 ;

金龙国 ;

崔世荣 ;

黄慈英 ;

金廷熙 .

韩国专利 :CN116515399B ,2025-07-25

[26]

化学机械抛光浆料组合物以及使用其对钨进行抛光的方法 [P].

张根三 ;

金元中 ;

朴泰远 ;

李知虎 ;

李义郞 ;

金眞敎 ;

李东炫 ;

李昌锡 .

韩国专利 :CN117987014A ,2024-05-07

[27]

化学机械抛光组合物和抛光铜基材的方法 [P].

夏欣妍 ;

欧阳广成 ;

肖桂林 ;

张季平 ;

高越 ;

夏元玲 ;

甄臻 ;

欧阳吉红 ;

汤舒嵋 .

中国专利 :CN120905676A ,2025-11-07

[28]

抛光浆料以及使用所述抛光浆料的衬底抛光方法 [P].

郑胜元 .

中国专利 :CN104746080A ,2015-07-01

[29]

浆料组合物、树脂灰浆组合物以及被覆方法 [P].

吉井裕次郎 ;

青木敏一 ;

高须干夫 .

中国专利 :CN101268109A ,2008-09-17

[30]

抛光组合物和抛光方法 [P].

山田修平 .

中国专利 :CN101235253A ,2008-08-06

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