束电流密度分布调整装置和离子注入机

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610860614.6

申请日：

2016-09-28

公开(公告)号：

CN107424892B

公开(公告)日：

2017-12-01

发明(设计)人：

山元徹朗萨米·K·哈托

申请人：

申请人地址：

日本京都

IPC主分类号：

H01J37147

IPC分类号：

H01J37317

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

鲁山;孙志湧

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-12-01	公开	公开
2017-12-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/147 申请日:20160928
2019-02-12	授权	授权

共 50 条

[1]

离子注入装置及束电流密度分布的调整方法 [P].

中尾和浩 .

中国专利 :CN102237245B ,2011-11-09

[2]

设定束电流密度分布的调整目标的方法和离子注入装置 [P].

中尾和浩 .

中国专利 :CN102237244B ,2011-11-09

[3]

离子注入机 [P].

山下贵敏 ;

藤田秀树 .

中国专利 :CN101174534B ,2008-05-07

[4]

离子注入机和采用此离子注入机的离子注入方法 [P].

吴相根 ;

文常营 ;

金定坤 ;

金度亨 .

中国专利 :CN1189921C ,1997-09-10

[5]

一种高速流离子注入机中离子束的调整装置 [P].

刘洋 .

中国专利 :CN106373849A ,2017-02-01

[6]

离子注入机 [P].

崔保群 ;

曹耀辉 ;

李志军 ;

路瑞亮 .

中国专利 :CN203055853U ,2013-07-10

[7]

离子注入机 [P].

付国柱 ;

邵喜斌 ;

荆海 ;

廖燕平 ;

高文涛 ;

史辉琨 .

中国专利 :CN1547240A ,2004-11-17

[8]

离子注入机 [P].

山下贵敏 ;

池尻忠司 ;

田中浩平 ;

赵维江 ;

田中秀之 .

中国专利 :CN101162679B ,2008-04-16

[9]

离子注入机 [P].

张晓峰 ;

彭海 ;

王吉祥 .

中国专利 :CN303339370S ,2015-08-19

[10]

离子注入机 [P].

王蒙 ;

李勇滔 ;

赵章琰 ;

李超波 ;

夏洋 .

中国专利 :CN103137447A ,2013-06-05

← 1 2 3 4 5 →