在衬底上沉积层的溅射涂覆装置以及方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200810133593.3
申请日
2008-07-17
公开(公告)号
CN101368261A
公开(公告)日
2009-02-18
发明(设计)人
詹姆士·斯科汉默 乌韦·霍夫曼 卓斯·曼纽尔·迪格茨-加波
申请人
申请人地址
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
C23C1434
IPC分类号
代理机构
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人
赵飞
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
用于在塑料衬底上沉积阻挡层的方法以及其涂覆装置和层系统 [P]. 
格尔德·霍夫曼 ;
亚历山德拉·L·奎斯诺 .
中国专利 :CN102165089A ,2011-08-24
[2]
溅射涂覆装置 [P]. 
安德里亚斯·鲁普 ;
拉尔夫·林德伯格 .
中国专利 :CN101503793A ,2009-08-12
[3]
用于在衬底上沉积材料层的方法以及相应形成的结构 [P]. 
J·安图内斯阿方索 ;
S·瓦拉斯 ;
P·查特拉因 ;
K·A·帕特尔 ;
F·达沃迪 .
:CN118610077A ,2024-09-06
[4]
在整料衬底上形成涂层的涂覆装置和方法 [P]. 
J·E·克林顿 ;
C·R·费克特 ;
顾云峰 .
中国专利 :CN104066519B ,2014-09-24
[5]
溅射涂覆装置和涂覆方法 [P]. 
克里斯托弗·蒙洛 ;
安德里亚斯·鲁普 ;
安德里亚斯·克鲁佩尔 ;
杜比亚斯·斯托利 ;
拉尔夫·林德伯格 ;
马库斯·班德尔 .
中国专利 :CN101878514B ,2010-11-03
[6]
在衬底上形成焊料沉积的方法 [P]. 
S.兰普雷希特 ;
K-J.马特雅特 ;
I.埃沃特 ;
S.肯尼 .
中国专利 :CN103026475A ,2013-04-03
[7]
真空层沉积设备和在基材上,尤其在待涂覆表面中包含凹痕的基材上沉积层的方法 [P]. 
J·维查尔特 .
:CN118715336A ,2024-09-27
[8]
在衬底上形成焊料合金沉积的方法 [P]. 
K-J.马特雅特 ;
S.兰普雷希特 ;
I.埃沃特 .
中国专利 :CN103026476A ,2013-04-03
[9]
用于沉积功能层的等离子涂覆方法和沉积装置 [P]. 
米夏埃尔·比斯格斯 ;
诺贝特·埃卡特 ;
克里斯蒂安·蒂勒 .
中国专利 :CN106232865B ,2016-12-14
[10]
涂覆装置以及涂覆方法 [P]. 
塩田明仁 ;
铃木启悟 .
中国专利 :CN108525941A ,2018-09-14