外延装置和外延过程中外延层的测量方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410445791.9

申请日：

2014-09-03

公开(公告)号：

CN105470155A

公开(公告)日：

2016-04-06

发明(设计)人：

方浩马志芳吴军

申请人：

申请人地址：

100176 北京市经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

H01L2166

IPC分类号：

代理机构：

北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201

代理人：

张大威

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-05-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101658489916 IPC(主分类):H01L 21/66 专利申请号:2014104457919 申请日:20140903
2018-08-24	授权	授权
2017-10-24	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):H01L 21/66 变更事项:申请人变更前:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司变更后:北京北方华创微电子装备有限公司变更事项:地址变更前:100176 北京市经济技术开发区文昌大道8号变更后:100176 北京市经济技术开发区文昌大道8号
2016-04-06	公开	公开

共 50 条

[1]

外延层厚度的测量方法 [P].

严耿昕 ;

曹敏 ;

张凯元 ;

姜俏 .

中国专利 :CN119905415A ,2025-04-29

[2]

一种测量外延片的外延层厚度的装置及其测量方法 [P].

徐新华 .

中国专利 :CN119133081A ,2024-12-13

[3]

一种测量外延片的外延层厚度的装置及其测量方法 [P].

徐新华 .

中国专利 :CN119133081B ,2025-04-08

[4]

外延图形漂移量的测量方法 [P].

张洪伟 .

中国专利 :CN101325168A ,2008-12-17

[5]

外延结构及其制备方法、外延结构的外延层厚度监控方法 [P].

李仕强 ;

张晖 .

中国专利 :CN119495585A ,2025-02-21

[6]

一种测量外延片的外延层厚度的方法 [P].

余先育 ;

张兴华 ;

唐德明 .

中国专利 :CN114739300A ,2022-07-12

[7]

外延层厚度测试装置和方法 [P].

张凌云 ;

金柱炫 .

中国专利 :CN111174716A ,2020-05-19

[8]

硅衬底上硅外延层厚度的测量方法 [P].

华佑南 ;

李晓旻 .

中国专利 :CN111312609A ,2020-06-19

[9]

外延层厚度测试工装及其测试外延层厚度的方法 [P].

申晨 ;

李乾 ;

王丛 ;

折伟林 ;

高达 ;

韩岗 .

中国专利 :CN110926349B ,2020-03-27

[10]

用于测量外延片的外延层厚度的载物台及系统 [P].

余先育 ;

张兴华 ;

唐德明 .

中国专利 :CN217306474U ,2022-08-26

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