一种测量外延片的外延层厚度的装置及其测量方法

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专利类型
发明
申请号
CN202411590354.6
申请日
2024-11-08
公开(公告)号
CN119133081B
公开(公告)日
2025-04-08
发明(设计)人
徐新华
申请人
浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司
申请人地址
323000 浙江省丽水市莲都区南明山街道绿谷大道309号国际车城15号楼11层-241
IPC主分类号
H01L21/687
IPC分类号
H01L21/67
代理机构
浙江维创盈嘉专利代理有限公司 33477
代理人
王美芳
法律状态
授权
国省代码
浙江省 丽水市
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共 50 条
[1]
一种测量外延片的外延层厚度的装置及其测量方法 [P]. 
徐新华 .
中国专利 :CN119133081A ,2024-12-13
[2]
外延层厚度的测量方法 [P]. 
严耿昕 ;
曹敏 ;
张凯元 ;
姜俏 .
中国专利 :CN119905415A ,2025-04-29
[3]
一种测量外延片的外延层厚度的方法 [P]. 
余先育 ;
张兴华 ;
唐德明 .
中国专利 :CN114739300A ,2022-07-12
[4]
一种外延片层的厚度测量方法 [P]. 
杨文帆 ;
王俊 ;
程洋 ;
詹文博 ;
赵武 ;
李婷 ;
闵大勇 .
中国专利 :CN119687839A ,2025-03-25
[5]
一种外延片层的厚度测量方法 [P]. 
杨文帆 ;
王俊 ;
程洋 ;
詹文博 ;
赵武 ;
李婷 ;
闵大勇 .
中国专利 :CN119687839B ,2025-07-08
[6]
外延装置和外延过程中外延层的测量方法 [P]. 
方浩 ;
马志芳 ;
吴军 .
中国专利 :CN105470155A ,2016-04-06
[7]
用于测量外延片的外延层厚度的载物台及系统 [P]. 
余先育 ;
张兴华 ;
唐德明 .
中国专利 :CN217306474U ,2022-08-26
[8]
一种外延片厚度测量方法及测量系统 [P]. 
张凌云 ;
金柱炫 .
中国专利 :CN111578852A ,2020-08-25
[9]
硅衬底上硅外延层厚度的测量方法 [P]. 
华佑南 ;
李晓旻 .
中国专利 :CN111312609A ,2020-06-19
[10]
外延层厚度测试工装及其测试外延层厚度的方法 [P]. 
申晨 ;
李乾 ;
王丛 ;
折伟林 ;
高达 ;
韩岗 .
中国专利 :CN110926349B ,2020-03-27