制造光学元件和半导体元件的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580044772.4

申请日：

2005-10-11

公开(公告)号：

CN101087675A

公开(公告)日：

2007-12-12

发明(设计)人：

安德鲁·J·欧德科克保罗·S·勒格奥勒斯特尔·小本森凯瑟琳·A·莱瑟达尔威廉·D·约瑟夫

申请人：

申请人地址：

美国明尼苏达州

IPC主分类号：

B24B13015

IPC分类号：

B24B1903 G02B300

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司

代理人：

顾红霞;张天舒

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-02-06	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-10-07	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2007-12-12	公开	公开

共 50 条

[1]

半导体元件和半导体元件的制造方法 [P].

村川贤太郎 .

日本专利 :CN114600248B ,2025-04-22

[2]

半导体元件和半导体元件的制造方法 [P].

村川贤太郎 .

中国专利 :CN114600248A ,2022-06-07

[3]

半导体元件和半导体元件的制造方法 [P].

西村武义 .

中国专利 :CN106449638A ,2017-02-22

[4]

半导体元件的制造方法和半导体元件 [P].

三宅泰人 ;

广山良治 ;

畑雅幸 .

中国专利 :CN101369528A ,2009-02-18

[5]

半导体元件的制造方法和半导体元件 [P].

松浦文章 ;

佐藤知稔 .

中国专利 :CN105706215B ,2016-06-22

[6]

半导体元件和制造半导体元件的方法 [P].

约阿希姆·魏尔斯 ;

凯夫尼·布埃越克塔斯 ;

弗朗茨·赫尔莱尔 ;

安东·毛德 .

中国专利 :CN103700650B ,2014-04-02

[7]

半导体光学元件的制造方法 [P].

阿部真司 ;

川崎和重 .

中国专利 :CN101950924A ,2011-01-19

[8]

制造光学半导体元件的方法 [P].

城岸直辉 ;

樱井淳 ;

村上朱实 ;

近藤崇 ;

武田一隆 ;

早川纯一朗 .

中国专利 :CN106505409A ,2017-03-15

[9]

半导体光学元件的制造方法 [P].

阿部真司 ;

川崎和重 .

中国专利 :CN101276993B ,2008-10-01

[10]

半导体元件和用于制造半导体元件的方法 [P].

M·瓦佩尔 ;

B·克诺特 ;

H·托伊斯 .

中国专利 :CN109637982A ,2019-04-16

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