形成光刻胶层的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610148820.0

申请日：

2006-12-28

公开(公告)号：

CN101211116A

公开(公告)日：

2008-07-02

发明(设计)人：

朱晓峥沈悦

申请人：

申请人地址：

201203上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

G03F716

IPC分类号：

G03F738 H01L2100 H01L21027 H01L21312

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

逯长明

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-08-27	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-03-23	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101077487929 IPC(主分类):G03F 7/16 专利申请号:2006101488200 公开日:20080702
2008-07-02	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻胶层的形成方法 [P].

唐蓉 ;

钱志浩 .

中国专利 :CN102610498A ,2012-07-25

[2]

光刻胶图案的形成方法和光刻胶层合体 [P].

山崎晃义 ;

本池直人 ;

川名大助 ;

佐藤和史 .

中国专利 :CN1424626A ,2003-06-18

[3]

形成光刻胶图形的方法 [P].

权五成 ;

李斗熙 ;

陆迵善 ;

洪兴基 ;

具永谟 .

中国专利 :CN1079548C ,1996-01-24

[4]

耐热正性光刻胶以及形成光刻胶图案的方法 [P].

何珂 ;

戈士勇 .

中国专利 :CN120762253A ,2025-10-10

[5]

形成光刻胶图案的方法 [P].

C·J·史密斯 ;

S·M·休斯 ;

C·M·J·霍克 ;

A·M·克罗尔 ;

A·G·纳吉 ;

P·M·瓦恩巴杰 .

中国专利 :CN100468642C ,2007-09-26

[6]

形成光刻胶图形的方法 [P].

冈村健司 ;

荒田弘美 ;

井上修一 .

中国专利 :CN1233848A ,1999-11-03

[7]

形成光刻胶图案的方法 [P].

汪钉崇 ;

蓝受龙 .

中国专利 :CN101140421B ,2008-03-12

[8]

形成光刻胶图案的方法 [P].

苏萌 ;

杨明 ;

宋延林 .

中国专利 :CN114815500A ,2022-07-29

[9]

光刻胶的形成方法 [P].

周从树 ;

顾以理 .

中国专利 :CN102012635B ,2011-04-13

[10]

形成光刻胶图案的方法 [P].

朴云峰 ;

朴春培 .

中国专利 :CN101435992B ,2009-05-20

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