在自然氧化的Si衬底上生长InAs纳米线的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210033519.0
申请日
2012-02-15
公开(公告)号
CN102569034A
公开(公告)日
2012-07-11
发明(设计)人
赵建华 王思亮 俞学哲 王海龙
申请人
申请人地址
100083 北京市海淀区清华东路甲35号
IPC主分类号
H01L2102
IPC分类号
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
汤保平
法律状态
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
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共 50 条
[1]
在Si衬底上生长GaAs纳米线的方法 [P]. 
张曙光 ;
林早阳 ;
李国强 ;
徐珍珠 .
中国专利 :CN109767972A ,2019-05-17
[2]
硅衬底上生长纳米线的衬底处理方法 [P]. 
杨涛 ;
王小耶 .
中国专利 :CN103794474A ,2014-05-14
[3]
在衬底上生长GaN平面纳米线的方法 [P]. 
伊晓燕 ;
伍绍腾 ;
刘志强 ;
黄洋 ;
程成 ;
王蕴玉 ;
綦成林 .
中国专利 :CN107881554A ,2018-04-06
[4]
在GaSb衬底上生长InAs层的生长速度测定方法 [P]. 
牛智川 ;
李农 ;
刘冰 ;
徐应强 ;
王国伟 ;
蒋洞微 ;
吴东海 ;
郝宏玥 ;
赵有文 ;
朱小贵 ;
何胜 .
中国专利 :CN113358677B ,2021-09-07
[5]
在Si衬底上生长ZnO薄膜的方法 [P]. 
崔军朋 ;
段垚 ;
王晓峰 ;
曾一平 .
中国专利 :CN101388346A ,2009-03-18
[6]
直接在Si衬底上自催化生长InAsSb纳米线的方法 [P]. 
杜文娜 ;
杨晓光 ;
王小耶 ;
杨涛 ;
王占国 .
中国专利 :CN103938178A ,2014-07-23
[7]
在Si衬底上分子束外延生长GeSn合金的方法 [P]. 
苏少坚 ;
汪巍 ;
成步文 ;
王启明 ;
张广泽 ;
胡炜玄 ;
白安琪 ;
薛春来 ;
左玉华 .
中国专利 :CN101962802A ,2011-02-02
[8]
在衬底上制备GaN纳米线的方法 [P]. 
刘志强 ;
伍绍腾 ;
伊晓燕 ;
黄洋 ;
程成 ;
王蕴玉 ;
綦成林 .
中国专利 :CN107910243A ,2018-04-13
[9]
Si衬底上生长ZnO外延薄膜的方法 [P]. 
叶志镇 ;
潘新花 .
中国专利 :CN101748480A ,2010-06-23
[10]
用分子束外延(MBE)在GaSb衬底上无催化制备GaSb纳米线的方法 [P]. 
唐吉龙 ;
方铉 ;
魏志鹏 ;
高娴 ;
陈芳 ;
房丹 ;
李金华 ;
楚学影 ;
方芳 ;
王晓华 ;
王菲 .
中国专利 :CN105019027B ,2015-11-04