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反铁电薄膜结构和电子器件、存储单元、电子装置
被引:0
申请号
:
CN202210423984.9
申请日
:
2022-04-21
公开(公告)号
:
CN115692482A
公开(公告)日
:
2023-02-03
发明(设计)人
:
朴报恩
金容诚
宋政奎
李周浩
申请人
:
申请人地址
:
韩国京畿道
IPC主分类号
:
H01L2951
IPC分类号
:
H01L29423
H01L29788
H10B1200
H01L2364
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
弋桂芬
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2023-02-03
公开
公开
共 50 条
[1]
铁电薄膜结构以及包括该铁电薄膜结构的电子器件
[P].
李润姓
论文数:
0
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0
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李润姓
;
许镇盛
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许镇盛
;
金尚昱
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金尚昱
;
文泰欢
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文泰欢
;
赵常玹
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0
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赵常玹
.
中国专利
:CN113345795A
,2021-09-03
[2]
铁电薄膜结构以及包括该铁电薄膜结构的电子器件
[P].
李润姓
论文数:
0
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0
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0
机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李润姓
;
许镇盛
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
许镇盛
;
金尚昱
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金尚昱
;
文泰欢
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
文泰欢
;
赵常玹
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0
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0
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0
机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
赵常玹
.
韩国专利
:CN113345795B
,2025-07-04
[3]
铁电薄膜结构、形成其的方法和系统及包括其的电子器件
[P].
李润姓
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李润姓
;
金尚昱
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金尚昱
;
赵常玹
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赵常玹
;
许镇盛
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许镇盛
;
李香淑
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0
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0
李香淑
.
中国专利
:CN112563323A
,2021-03-26
[4]
包括铁电薄膜的电子器件、半导体器件和制造铁电薄膜的方法
[P].
李润姓
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李润姓
;
许镇盛
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
许镇盛
;
金起弘
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金起弘
;
崔德铉
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
崔德铉
;
李泫宰
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李泫宰
;
赵常玹
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
赵常玹
.
韩国专利
:CN118159034A
,2024-06-07
[5]
自旋电子器件、存储单元、存储阵列和读写电路
[P].
邢国忠
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邢国忠
;
王迪
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王迪
;
刘龙
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刘龙
;
林淮
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林淮
;
刘明
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刘明
.
中国专利
:CN114038991A
,2022-02-11
[6]
薄膜结构及其制备方法、电子器件
[P].
梁龙跃
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机构:
济南晶正电子科技有限公司
济南晶正电子科技有限公司
梁龙跃
;
刘亚明
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机构:
济南晶正电子科技有限公司
济南晶正电子科技有限公司
刘亚明
;
胡文
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机构:
济南晶正电子科技有限公司
济南晶正电子科技有限公司
胡文
.
中国专利
:CN119758619A
,2025-04-04
[7]
薄膜结构及其制备方法、电子器件
[P].
梁龙跃
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机构:
济南晶正电子科技有限公司
济南晶正电子科技有限公司
梁龙跃
;
刘亚明
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机构:
济南晶正电子科技有限公司
济南晶正电子科技有限公司
刘亚明
;
胡文
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0
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机构:
济南晶正电子科技有限公司
济南晶正电子科技有限公司
胡文
.
中国专利
:CN119758619B
,2025-09-30
[8]
膜结构及其制备方法、电子器件
[P].
李龙基
论文数:
0
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0
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0
李龙基
.
中国专利
:CN115537741A
,2022-12-30
[9]
电子器件和电子装置
[P].
王航
论文数:
0
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王航
.
中国专利
:CN112019180A
,2020-12-01
[10]
电子器件基片结构和电子器件
[P].
野口隆男
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野口隆男
;
斋藤久俊
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斋藤久俊
;
阿部秀典
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阿部秀典
;
山下喜就
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山下喜就
.
中国专利
:CN1487563A
,2004-04-07
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