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一种高质量Ga2O3薄膜及其异质外延制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201811208179.4
申请日
:
2018-10-17
公开(公告)号
:
CN109346400B
公开(公告)日
:
2019-02-15
发明(设计)人
:
董鑫
张源涛
李赜明
张宝林
李万程
申请人
:
申请人地址
:
130012 吉林省长春市前进大街2699号
IPC主分类号
:
H01L2102
IPC分类号
:
代理机构
:
长春吉大专利代理有限责任公司 22201
代理人
:
刘世纯;王恩远
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-02-15
公开
公开
2021-09-10
授权
授权
2019-03-12
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20181017
共 50 条
[1]
一种高厚度、高质量Ga2O3薄膜材料及其制备方法
[P].
董鑫
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董鑫
;
党新明
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党新明
;
焦腾
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焦腾
;
陈威
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陈威
;
张源涛
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张源涛
.
中国专利
:CN114899106A
,2022-08-12
[2]
一种高厚度、高质量Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜材料及其制备方法
[P].
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机构:
董鑫
;
论文数:
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机构:
党新明
;
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机构:
焦腾
;
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机构:
陈威
;
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机构:
张源涛
.
中国专利
:CN114899106B
,2025-01-14
[3]
一种高质量氧化镓薄膜及其同质外延生长方法
[P].
董鑫
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董鑫
;
张源涛
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张源涛
;
李赜明
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李赜明
;
张宝林
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张宝林
;
焦腾
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焦腾
;
李万程
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李万程
.
中国专利
:CN110911270A
,2020-03-24
[4]
一种通过低键能N2O热氧化制备高质量稳态β-Ga2O3薄膜的方法
[P].
刘毅
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刘毅
;
韦素芬
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韦素芬
;
李明逵
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李明逵
.
中国专利
:CN115029683A
,2022-09-09
[5]
一种Ga2O3薄膜及其制备方法
[P].
陈星
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陈星
;
刘可为
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刘可为
;
申德振
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申德振
;
李炳辉
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李炳辉
;
张振中
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张振中
.
中国专利
:CN111710591A
,2020-09-25
[6]
一种Ga2O3薄膜及其制备方法
[P].
陈星
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陈星
;
刘可为
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刘可为
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申德振
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申德振
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张振中
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张振中
;
李炳辉
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李炳辉
.
中国专利
:CN111710592B
,2020-09-25
[7]
一种制备β-Ga2O3薄膜方法
[P].
邢艳辉
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邢艳辉
;
张尧
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张尧
;
韩军
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韩军
;
曹旭
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曹旭
.
中国专利
:CN110195217A
,2019-09-03
[8]
一种Ga2O3:Zn薄膜及其制备方法
[P].
刘可为
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刘可为
;
孙璇
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孙璇
;
申德振
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申德振
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陈星
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陈星
;
张振中
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张振中
;
李炳辉
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李炳辉
.
中国专利
:CN111710593A
,2020-09-25
[9]
一种高质量GaN薄膜及其制备方法
[P].
贾伟
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贾伟
;
樊腾
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樊腾
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李天保
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李天保
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仝广运
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仝广运
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董海亮
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董海亮
;
许并社
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许并社
.
中国专利
:CN108538977B
,2018-09-14
[10]
一种高质量p型氧化镓纳米柱状结构薄膜及其制备方法
[P].
董鑫
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董鑫
;
陈威
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陈威
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焦腾
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焦腾
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张源涛
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张源涛
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张宝林
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张宝林
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中国专利
:CN113097055B
,2021-07-09
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