一种使用辅助衬底大面积清洁制备单层二硫化钼薄膜的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201710252363.8
申请日
2017-04-18
公开(公告)号
CN106917072A
公开(公告)日
2017-07-04
发明(设计)人
张秀梅 肖少庆 顾晓峰 张学成
申请人
申请人地址
214122 江苏省无锡市滨湖区蠡湖大道1800号
IPC主分类号
C23C1630
IPC分类号
C23C16448 C23C1604
代理机构
代理人
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
氨水辅助制备大面积单层二硫化钼的方法 [P]. 
刘明岩 ;
万逸 ;
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[2]
一种大面积二硫化钼薄膜的制备方法 [P]. 
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周子皓 ;
杨子凡 ;
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[3]
一种大面积硒掺杂二硫化钼薄膜材料的制备方法 [P]. 
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[4]
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陈鑫 ;
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[5]
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冯朝帅 ;
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崔鹤展 ;
韩海圆 ;
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[6]
一种大面积单层及少层二硫化钼薄膜的制备方法 [P]. 
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[7]
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陈传蒙 ;
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[8]
基于衬底硫化预处理的单层二硫化钼的制备方法 [P]. 
丛春晓 ;
杨鹏 ;
仇志军 ;
刘冉 .
中国专利 :CN110451564B ,2019-11-15
[9]
单层二硫化钼薄膜的制备方法 [P]. 
吴华强 ;
袁硕果 ;
李寒 ;
钱鹤 .
中国专利 :CN103757602A ,2014-04-30
[10]
一种大面积单层及少层二硫化钼薄膜的转移方法 [P]. 
王金斌 ;
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