等离子体分光分析方法及等离子体分光分析装置

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专利类型
发明
申请号
CN201710599681.1
申请日
2017-07-21
公开(公告)号
CN107643279A
公开(公告)日
2018-01-30
发明(设计)人
高须刚
申请人
申请人地址
日本京都府
IPC主分类号
G01N2166
IPC分类号
代理机构
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人
高培培;车文
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[41]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
吉田绚 ;
河野和则 .
中国专利 :CN114496709A ,2022-05-13
[42]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
青木裕介 ;
森北信也 ;
户花敏胜 ;
高田郁弥 .
中国专利 :CN111477531A ,2020-07-31
[43]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
岩濑拓 ;
荒濑高男 ;
寺仓聪志 ;
渡边勇人 ;
森政士 .
中国专利 :CN111373511A ,2020-07-03
[44]
等离子体产生装置及等离子体处理方法 [P]. 
岩田卓也 .
中国专利 :CN114586473A ,2022-06-03
[45]
等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P]. 
舆水地盐 ;
广津信 ;
池田武信 ;
永海幸一 ;
桧森慎司 .
日本专利 :CN119153303A ,2024-12-17
[46]
等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P]. 
舆水地盐 ;
久保田绅治 .
日本专利 :CN113228830B ,2024-10-01
[47]
等离子体切割方法及等离子体切割装置 [P]. 
小池哲夫 ;
古城昭 ;
平井隆太 .
中国专利 :CN101541464A ,2009-09-23
[48]
等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P]. 
三浦繁博 ;
加藤寿 ;
佐藤润 ;
中坪敏行 ;
菊地宏之 .
中国专利 :CN105097459A ,2015-11-25
[49]
等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P]. 
小笠原幸辅 ;
齐藤进 ;
野泽秀二 .
中国专利 :CN100495641C ,2007-09-19
[50]
等离子体产生装置及等离子体处理方法 [P]. 
岩田卓也 .
日本专利 :CN114586473B ,2025-02-18