等离子体处理方法及等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710088374.3

申请日：

2007-03-16

公开(公告)号：

CN100495641C

公开(公告)日：

2007-09-19

发明(设计)人：

小笠原幸辅齐藤进野泽秀二

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L213065 H01L21311 H01L213213 H01L2166 C23F400 H01J3732

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-11-14	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-09-19	公开	公开
2009-06-03	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

王斌 ;

三村裕一 .

中国专利 :CN1505113A ,2004-06-16

[2]

等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

森口尚树 .

中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25

[3]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

林久贵 .

中国专利 :CN105280489A ,2016-01-27

[4]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

有田洁 ;

岩井哲博 ;

寺山纯一 .

中国专利 :CN1516890A ,2004-07-28

[5]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

酒井伊都子 .

中国专利 :CN107591308A ,2018-01-16

[6]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

平山昌树 ;

大见忠弘 .

中国专利 :CN102057465A ,2011-05-11

[7]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

吉田绚 ;

河野和则 .

中国专利 :CN114496709A ,2022-05-13

[8]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

青木裕介 ;

森北信也 ;

户花敏胜 ;

高田郁弥 .

中国专利 :CN111477531A ,2020-07-31

[9]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

岩濑拓 ;

荒濑高男 ;

寺仓聪志 ;

渡边勇人 ;

森政士 .

中国专利 :CN111373511A ,2020-07-03

[10]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

舆水地盐 ;

广津信 ;

池田武信 ;

永海幸一 ;

桧森慎司 .

日本专利 :CN119153303A ,2024-12-17

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