等离子体处理方法及等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200310118222.5

申请日：

2003-12-05

公开(公告)号：

CN1505113A

公开(公告)日：

2004-06-16

发明(设计)人：

王斌三村裕一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L213065

IPC分类号：

H01L2100 H05H100

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-08-25	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-06-28	授权	授权
2017-01-18	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101699001647 IPC(主分类):H01L 21/3065 专利号:ZL2003101182225 申请日:20031205 授权公告日:20060628 终止日期:20151205
2004-06-16	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

小笠原幸辅 ;

齐藤进 ;

野泽秀二 .

中国专利 :CN100495641C ,2007-09-19

[2]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

橘内浩之 ;

田中润一 ;

山本秀之 .

中国专利 :CN1525538A ,2004-09-01

[3]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

洼田真树 ;

满留和也 .

日本专利 :CN120565381A ,2025-08-29

[4]

等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

森口尚树 .

中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25

[5]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

林久贵 .

中国专利 :CN105280489A ,2016-01-27

[6]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

有田洁 ;

岩井哲博 ;

寺山纯一 .

中国专利 :CN1516890A ,2004-07-28

[7]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

酒井伊都子 .

中国专利 :CN107591308A ,2018-01-16

[8]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

平山昌树 ;

大见忠弘 .

中国专利 :CN102057465A ,2011-05-11

[9]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

吉田绚 ;

河野和则 .

中国专利 :CN114496709A ,2022-05-13

[10]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

青木裕介 ;

森北信也 ;

户花敏胜 ;

高田郁弥 .

中国专利 :CN111477531A ,2020-07-31

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