应用于半导体光刻工艺中的掩膜版及光刻工艺方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010109639.9

申请日：

2020-02-22

公开(公告)号：

CN113296354A

公开(公告)日：

2021-08-24

发明(设计)人：

范聪聪

申请人：

申请人地址：

230001 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室

IPC主分类号：

G03F154

IPC分类号：

G03F900 H01L23544

代理机构：

上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294

代理人：

孙佳胤;高翠花

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-24	公开	公开

共 50 条

[1]

应用于半导体光刻工艺中的掩膜图形及光刻工艺方法 [P].

范聪聪 .

中国专利 :CN113296352B ,2021-08-24

[2]

半导体光刻工艺 [P].

黄沛霖 ;

黄浚彦 ;

王逸铭 .

中国专利 :CN102213914B ,2011-10-12

[3]

半导体光刻工艺的方法 [P].

孙彪 .

中国专利 :CN112987516B ,2021-06-18

[4]

掩膜版、版图、光刻系统及其光刻工艺方法 [P].

李伟峰 .

中国专利 :CN111240149A ,2020-06-05

[5]

光刻工艺及用于执行光刻工艺的系统 [P].

游秋山 .

中国专利 :CN107546111B ,2018-01-05

[6]

光刻工艺方法 [P].

冷国庆 ;

邢会锋 ;

尹静娟 ;

陈倩 .

中国专利 :CN116072519B ,2025-12-09

[7]

用于半导体光刻工艺的保护膜设备 [P].

李雨青 ;

余青芳 ;

林俊宏 ;

许庭豪 ;

张庆祥 ;

秦圣基 .

中国专利 :CN107045264A ,2017-08-15

[8]

光刻工艺方法 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN110767540A ,2020-02-07

[9]

光刻工艺方法 [P].

李伟峰 ;

王雷 .

中国专利 :CN105527798A ,2016-04-27

[10]

光刻工艺方法 [P].

游信胜 ;

余青芳 ;

王文娟 ;

许庭豪 ;

秦圣基 ;

严涛南 .

中国专利 :CN109307989B ,2019-02-05

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