超大板直写式光刻机扫描曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710156795.9

申请日：

2017-03-16

公开(公告)号：

CN106802538B

公开(公告)日：

2017-06-06

发明(设计)人：

陈海巍

申请人：

申请人地址：

214135 江苏省无锡市新吴区菱湖大道200号中国传感网国际创新园F3栋

IPC主分类号：

G03F722

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211

代理人：

张勇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-06-30	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101730169585 IPC(主分类):G03F 7/22 专利申请号:2017101567959 申请日:20170316
2017-06-06	公开	公开
2019-01-29	授权	授权

共 50 条

[1]

直写式光刻机曝光控制方法及装置、介质和直写式光刻机 [P].

王超 ;

梅文辉 ;

赵美云 ;

邵德洋 .

中国专利 :CN119556532A ,2025-03-04

[2]

一种直写式光刻机的扫描曝光方法 [P].

周黎 ;

张书荣 ;

胥涛棚 ;

李伟成 ;

张雷 .

中国专利 :CN113960887B ,2022-01-21

[3]

光刻机扫描曝光方法 [P].

张俊 .

中国专利 :CN101487988A ,2009-07-22

[4]

控制直写光刻机曝光的方法、装置和光刻机 [P].

赵美云 .

中国专利 :CN111367147B ,2020-07-03

[5]

控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机 [P].

赵美云 .

中国专利 :CN113934115A ,2022-01-14

[6]

一种直写式光刻机曝光方法 [P].

赵美云 .

中国专利 :CN110597019B ,2019-12-20

[7]

直写式光刻机曝光对准装置及方法 [P].

李显杰 .

中国专利 :CN106773566A ,2017-05-31

[8]

直写式曝光系统及光刻机 [P].

陈超 ;

陈锡媛 ;

蔡自立 ;

零萍 .

中国专利 :CN117348351A ,2024-01-05

[9]

直写式光刻机曝光控制系统 [P].

王正宏 .

中国专利 :CN201194067Y ,2009-02-11

[10]

光刻机及其扫描曝光方法 [P].

伍强 ;

郝静安 ;

刘畅 ;

姚欣 ;

李天慧 ;

舒强 ;

顾一鸣 .

中国专利 :CN103186055B ,2013-07-03

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