一种直写式光刻机曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910815604.4

申请日：

2019-08-30

公开(公告)号：

CN110597019B

公开(公告)日：

2019-12-20

发明(设计)人：

赵美云

申请人：

申请人地址：

230088 安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115

代理人：

奚华保

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-04-19	授权	授权
2019-12-20	公开	公开
2020-02-18	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更事项:申请人变更前:合肥芯碁微电子装备有限公司变更后:合肥芯碁微电子装备股份有限公司变更事项:地址变更前:230088 安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层变更后:230088 安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层
2020-01-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20190830

共 50 条

[1]

直写式光刻机曝光控制方法及装置、介质和直写式光刻机 [P].

王超 ;

梅文辉 ;

赵美云 ;

邵德洋 .

中国专利 :CN119556532A ,2025-03-04

[2]

一种直写式光刻机拼接方法 [P].

赵美云 .

中国专利 :CN110531590A ,2019-12-03

[3]

光刻机（激光直写式） [P].

张华 ;

廖平强 ;

周川 ;

许艳 .

中国专利 :CN307361587S ,2022-05-24

[4]

一种直写式光刻机的扫描曝光方法 [P].

周黎 ;

张书荣 ;

胥涛棚 ;

李伟成 ;

张雷 .

中国专利 :CN113960887B ,2022-01-21

[5]

控制直写光刻机曝光的方法、装置和光刻机 [P].

赵美云 .

中国专利 :CN111367147B ,2020-07-03

[6]

控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机 [P].

赵美云 .

中国专利 :CN113934115A ,2022-01-14

[7]

超大板直写式光刻机扫描曝光方法 [P].

陈海巍 .

中国专利 :CN106802538B ,2017-06-06

[8]

直写式光刻机曝光对准装置及方法 [P].

李显杰 .

中国专利 :CN106773566A ,2017-05-31

[9]

直写式曝光系统及光刻机 [P].

陈超 ;

陈锡媛 ;

蔡自立 ;

零萍 .

中国专利 :CN117348351A ,2024-01-05

[10]

直写式光刻机曝光控制系统 [P].

王正宏 .

中国专利 :CN201194067Y ,2009-02-11

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