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形成半导体器件精细图案的方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN96107116.8
申请日：
1996-06-24
公开(公告)号：
CN1142121A
公开(公告)日：
1997-02-05
发明(设计)人：
韩镇洙
申请人：
申请人地址：
韩国京畿道
IPC主分类号：
H01L2130
IPC分类号：
代理机构：
上海专利商标事务所
代理人：
张政权
法律状态：
实质审查请求的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 1997-01-15 | 实质审查请求的生效 | 实质审查请求的生效 |
| 1997-02-05 | 公开 | 公开 |
| 2006-10-18 | 发明专利申请公布后的驳回 | 发明专利申请公布后的驳回 |