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膜厚测量方法及膜厚测量装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201480074364.2
申请日
:
2014-10-24
公开(公告)号
:
CN105940282A
公开(公告)日
:
2016-09-14
发明(设计)人
:
大塚贤一
中野哲寿
申请人
:
申请人地址
:
日本,静冈县
IPC主分类号
:
G01B1106
IPC分类号
:
G01N2127
H01L2166
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
杨琦
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-09-14
公开
公开
2019-03-05
授权
授权
2016-10-19
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101683103770 IPC(主分类):G01B 11/06 专利申请号:2014800743642 申请日:20141024
共 50 条
[1]
膜厚测量装置以及膜厚测量方法
[P].
川口史朗
论文数:
0
引用数:
0
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0
川口史朗
;
中嶋一八
论文数:
0
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0
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0
中嶋一八
.
中国专利
:CN112781506A
,2021-05-11
[2]
膜厚测量装置及膜厚测量方法
[P].
高濑惠宏
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0
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高濑惠宏
;
中西英俊
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中西英俊
;
木濑一夫
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木濑一夫
;
河野元宏
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0
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河野元宏
;
川山巌
论文数:
0
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川山巌
;
斗内政吉
论文数:
0
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斗内政吉
.
中国专利
:CN108027236A
,2018-05-11
[3]
膜厚测量装置及膜厚测量方法
[P].
大冢贤一
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0
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0
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
大冢贤一
;
增冈英树
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
增冈英树
;
井口和也
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
井口和也
.
日本专利
:CN120344818A
,2025-07-18
[4]
膜厚测量装置及膜厚测量方法
[P].
年婷
论文数:
0
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0
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年婷
.
中国专利
:CN108120409B
,2018-06-05
[5]
膜厚测量装置及膜厚测量方法
[P].
大冢贤一
论文数:
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
大冢贤一
;
增冈英树
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0
机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
增冈英树
;
井口和也
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0
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
井口和也
.
日本专利
:CN120303531A
,2025-07-11
[6]
膜厚测量方法及测量装置
[P].
邓罗泉
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邓罗泉
;
唐旱波
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唐旱波
;
刘尧平
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刘尧平
;
肖川
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肖川
;
陈全胜
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陈全胜
;
陈伟
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陈伟
;
杜小龙
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0
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杜小龙
.
中国专利
:CN114659451A
,2022-06-24
[7]
膜厚测量方法及测量装置
[P].
邓罗泉
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机构:
松山湖材料实验室
松山湖材料实验室
邓罗泉
;
唐旱波
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机构:
松山湖材料实验室
松山湖材料实验室
唐旱波
;
刘尧平
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机构:
松山湖材料实验室
松山湖材料实验室
刘尧平
;
肖川
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机构:
松山湖材料实验室
松山湖材料实验室
肖川
;
陈全胜
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机构:
松山湖材料实验室
松山湖材料实验室
陈全胜
;
陈伟
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机构:
松山湖材料实验室
松山湖材料实验室
陈伟
;
杜小龙
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机构:
松山湖材料实验室
松山湖材料实验室
杜小龙
.
中国专利
:CN114659451B
,2025-01-28
[8]
膜厚测量装置和膜厚测量方法
[P].
张建楠
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张建楠
;
封宾
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封宾
;
袁剑峰
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袁剑峰
.
中国专利
:CN103994740A
,2014-08-20
[9]
膜厚测量方法、膜厚测量系统
[P].
田帅飞
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
田帅飞
;
陶泽
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
陶泽
;
杨康
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
杨康
.
中国专利
:CN119230431A
,2024-12-31
[10]
膜厚测量方法、膜厚测量系统
[P].
田帅飞
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
田帅飞
;
陶泽
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
陶泽
;
杨康
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0
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
杨康
.
中国专利
:CN119230431B
,2025-11-04
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