膜厚测量方法、膜厚测量系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411346918.1

申请日：

2024-09-25

公开(公告)号：

CN119230431B

公开(公告)日：

2025-11-04

发明(设计)人：

田帅飞陶泽杨康

申请人：

武汉颐光科技有限公司

申请人地址：

430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区金融港四路10号6号楼（自贸区武汉片区）

IPC主分类号：

H01L21/66

IPC分类号：

G01B11/06

代理机构：

北京钲霖知识产权代理有限公司 11722

代理人：

李志新;杨继成

法律状态：

授权

国省代码：

河北省石家庄市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-04	授权	授权
2024-12-31	公开	公开
2025-01-17	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/66申请日:20240925

共 50 条

[1]

膜厚测量方法、膜厚测量系统 [P].

田帅飞 ;

陶泽 ;

杨康 .

中国专利 :CN119230431A ,2024-12-31

[2]

膜厚测量装置和膜厚测量方法 [P].

张建楠 ;

封宾 ;

袁剑峰 .

中国专利 :CN103994740A ,2014-08-20

[3]

膜厚测量装置及膜厚测量方法 [P].

高濑惠宏 ;

中西英俊 ;

木濑一夫 ;

河野元宏 ;

川山巌 ;

斗内政吉 .

中国专利 :CN108027236A ,2018-05-11

[4]

膜厚测量装置及膜厚测量方法 [P].

大冢贤一 ;

增冈英树 ;

井口和也 .

日本专利 :CN120344818A ,2025-07-18

[5]

膜厚测量方法及膜厚测量装置 [P].

大塚贤一 ;

中野哲寿 .

中国专利 :CN105940282A ,2016-09-14

[6]

膜厚测量装置以及膜厚测量方法 [P].

川口史朗 ;

中嶋一八 .

中国专利 :CN112781506A ,2021-05-11

[7]

膜厚测量装置及膜厚测量方法 [P].

年婷 .

中国专利 :CN108120409B ,2018-06-05

[8]

膜厚测量装置及膜厚测量方法 [P].

大冢贤一 ;

增冈英树 ;

井口和也 .

日本专利 :CN120303531A ,2025-07-11

[9]

膜厚测量装置、膜厚测量方法、成膜系统和成膜方法 [P].

品田正人 ;

竹山环 ;

小野一修 ;

铃木直行 ;

千早宏昭 ;

E·N·阿瓦拉 .

中国专利 :CN113375567A ,2021-09-10

[10]

膜厚测量装置以及测量方法 [P].

大塚贤一 ;

中野哲寿 ;

渡边元之 .

中国专利 :CN102341670B ,2012-02-01

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