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膜厚测量装置、膜厚测量方法、成膜系统和成膜方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110224635.X
申请日
:
2021-03-01
公开(公告)号
:
CN113375567A
公开(公告)日
:
2021-09-10
发明(设计)人
:
品田正人
竹山环
小野一修
铃木直行
千早宏昭
E·N·阿瓦拉
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G01B1106
IPC分类号
:
B32B900
B32B904
B32B3300
B32B3818
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳;徐飞跃
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-09-28
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/06 申请日:20210301
2021-09-10
公开
公开
共 50 条
[1]
膜厚测量方法、膜厚测量系统
[P].
田帅飞
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
田帅飞
;
陶泽
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
陶泽
;
杨康
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
杨康
.
中国专利
:CN119230431A
,2024-12-31
[2]
膜厚测量方法、膜厚测量系统
[P].
田帅飞
论文数:
0
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
田帅飞
;
陶泽
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
陶泽
;
杨康
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
杨康
.
中国专利
:CN119230431B
,2025-11-04
[3]
膜厚测量装置和膜厚测量方法
[P].
张建楠
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张建楠
;
封宾
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封宾
;
袁剑峰
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袁剑峰
.
中国专利
:CN103994740A
,2014-08-20
[4]
膜厚测量装置和成膜装置
[P].
佐井旭阳
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佐井旭阳
;
日向阳平
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日向阳平
;
大泷芳幸
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大泷芳幸
;
姜友松
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姜友松
.
中国专利
:CN104395690B
,2015-03-04
[5]
膜厚测量装置及膜厚测量方法
[P].
高濑惠宏
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高濑惠宏
;
中西英俊
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中西英俊
;
木濑一夫
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木濑一夫
;
河野元宏
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河野元宏
;
川山巌
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川山巌
;
斗内政吉
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斗内政吉
.
中国专利
:CN108027236A
,2018-05-11
[6]
膜厚测量装置及膜厚测量方法
[P].
大冢贤一
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
大冢贤一
;
增冈英树
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
增冈英树
;
井口和也
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
井口和也
.
日本专利
:CN120344818A
,2025-07-18
[7]
膜厚测量方法及膜厚测量装置
[P].
大塚贤一
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大塚贤一
;
中野哲寿
论文数:
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中野哲寿
.
中国专利
:CN105940282A
,2016-09-14
[8]
膜厚测量装置以及膜厚测量方法
[P].
川口史朗
论文数:
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川口史朗
;
中嶋一八
论文数:
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中嶋一八
.
中国专利
:CN112781506A
,2021-05-11
[9]
膜厚测量装置及膜厚测量方法
[P].
年婷
论文数:
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年婷
.
中国专利
:CN108120409B
,2018-06-05
[10]
膜厚测量装置及膜厚测量方法
[P].
大冢贤一
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
大冢贤一
;
增冈英树
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
增冈英树
;
井口和也
论文数:
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
井口和也
.
日本专利
:CN120303531A
,2025-07-11
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