半导体晶片的清洗方法和清洗装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410064092.6

申请日：

2004-07-09

公开(公告)号：

CN1577760A

公开(公告)日：

2005-02-09

发明(设计)人：

荒木巧四方吉和羽室孝

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

H01L21302

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

何腾云

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-04-13	实质审查的生效	实质审查的生效
2018-07-27	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20040709 授权公告日:20081126 终止日期:20170709
2008-11-26	授权	授权
2005-02-09	公开	公开

共 50 条

[1]

半导体晶片的清洗装置以及半导体晶片的清洗方法 [P].

野田魁人 ;

大久保知洋 ;

中尾勇贵 ;

富田迪彦 .

中国专利 :CN114902379A ,2022-08-12

[2]

半导体晶片的清洗条件确定方法和半导体晶片的清洗方法 [P].

久保田真美 ;

佐藤义贵 ;

小田悠 ;

芦马溪 ;

中尾文彰 ;

山田美和子 .

日本专利 :CN120898273A ,2025-11-04

[3]

半导体晶片清洗装置和方法 [P].

L·张 ;

M·G·威林 .

中国专利 :CN1310860A ,2001-08-29

[4]

半导体晶片用干冰清洗装置及半导体晶片的清洗方法 [P].

矢野良树 ;

渕上庆太 .

日本专利 :CN118056266A ,2024-05-17

[5]

半导体晶片的清洗方法以及清洗装置 [P].

高桥正好 ;

千叶金夫 .

中国专利 :CN101939826B ,2011-01-05

[6]

半导体晶片动态换向清洗装置和清洗方法 [P].

李杰 ;

姜月月 .

中国专利 :CN120998815A ,2025-11-21

[7]

半导体晶片清洗装置 [P].

韩石彬 .

中国专利 :CN1156901A ,1997-08-13

[8]

半导体晶片的清洗方法 [P].

阿部达夫 ;

椛泽均 .

中国专利 :CN103608904A ,2014-02-26

[9]

半导体晶片的清洗方法 [P].

宫田毅 ;

三由裕一 ;

波冈义哲 .

中国专利 :CN1638058A ,2005-07-13

[10]

半导体晶片清洗装置 [P].

马祖光 ;

郭光辉 .

中国专利 :CN208923038U ,2019-05-31

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