一种湿法清洗等离子体刻蚀残留物的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110110381.5

申请日：

2011-04-29

公开(公告)号：

CN102420168A

公开(公告)日：

2012-04-18

发明(设计)人：

李磊胡友存姬峰张亮陈玉文

申请人：

申请人地址：

201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

IPC主分类号：

H01L21768

IPC分类号：

代理机构：

上海新天专利代理有限公司 31213

代理人：

王敏杰

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-03-12	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101697939879 IPC(主分类):H01L 21/768 专利申请号:2011101103815 申请公布日:20120418
2012-06-06	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101259314243 IPC(主分类):H01L 21/768 专利申请号:2011101103815 申请日:20110429
2012-04-18	公开	公开

共 50 条

[1]

一种等离子体刻蚀残留物清洗液 [P].

肖林成 ;

刘兵 ;

彭洪修 ;

张维棚 ;

赵鹏 .

中国专利 :CN113130292A ,2021-07-16

[2]

等离子体刻蚀方法及等离子体刻蚀后处理方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN108493104A ,2018-09-04

[3]

等离子体刻蚀工艺 [P].

陈敏敏 ;

张年亨 ;

刘克 .

中国专利 :CN110459458B ,2019-11-15

[4]

等离子体刻蚀方法 [P].

高山星一 ;

倪图强 .

中国专利 :CN101465287B ,2009-06-24

[5]

一种等离子体刻蚀的方法 [P].

刘庆 ;

曾林华 ;

任昱 ;

吕煜坤 ;

朱骏 ;

张旭升 .

中国专利 :CN108847390A ,2018-11-20

[6]

等离子体刻蚀装置及等离子体刻蚀方法 [P].

刘东升 ;

吕煜坤 ;

朱骏 ;

张旭升 .

中国专利 :CN105161395A ,2015-12-16

[7]

等离子体刻蚀装置及其等离子体刻蚀方法 [P].

周亚勇 ;

罗林 ;

刘家桦 .

中国专利 :CN109256316A ,2019-01-22

[8]

等离子体刻蚀装置和等离子体刻蚀方法 [P].

黄啟伟 ;

柳波 ;

高君 ;

张家赫 ;

刘彦伟 .

中国专利 :CN121096838A ,2025-12-09

[9]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

于昊 ;

彭杏 .

中国专利 :CN101561641A ,2009-10-21

[10]

等离子体刻蚀方法 [P].

李俊良 ;

杨俊 .

中国专利 :CN104681406A ,2015-06-03

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