用于去除抗光蚀剂和蚀刻残留物的含有氟化物的酸性组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN00800080.8

申请日：

2000-01-04

公开(公告)号：

CN1176199C

公开(公告)日：

2001-07-04

发明(设计)人：

达里尔·W·彼得斯伊尔·E·沃德

申请人：

申请人地址：

美国宾西法尼亚州

IPC主分类号：

C11D904

IPC分类号：

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

于辉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2001-12-26	实质审查的生效	实质审查的生效
2001-07-04	公开	公开
2004-11-17	授权	授权
2004-07-14	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移变更事项:申请人变更前权利人:阿什兰公司变更后权利人:气体产品及化学制品公司变更事项:地址变更前权利人:美国俄亥俄州变更后权利人:美国宾西法尼亚州登记生效日:20040611
2020-02-04	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C11D 9/04 申请日:20000104 授权公告日:20041117

共 50 条

[1]

用于去除蚀刻后残留物的清洁组合物 [P].

M·佩恩 ;

E·库珀 ;

金万涞 ;

E·洪 ;

S·金 .

中国专利 :CN110023477A ,2019-07-16

[2]

一种用于蚀刻后残留物去除的组合物 [P].

夏德勇 ;

刘兵 ;

刘玉凤 .

中国专利 :CN120173682A ,2025-06-20

[3]

一种蚀刻残留物去除剂组合物 [P].

程章 ;

彭洪修 ;

刘兵 ;

吴兵 .

中国专利 :CN119414678A ,2025-02-11

[4]

用于去除刻蚀残留物的组合物 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

王淑敏 .

中国专利 :CN101490627B ,2009-07-22

[5]

用于TiN硬掩模去除和蚀刻残留物清洁的组合物 [P].

陈昭翔 ;

李翊嘉 ;

刘文达 ;

张仲逸 .

中国专利 :CN110777381B ,2020-02-11

[6]

用于去除蚀刻残留物的组合物及其使用方法和用途 [P].

孙来生 ;

王莉莉 ;

吴爱萍 ;

李翊嘉 ;

陈天牛 .

美国专利 :CN114450388B ,2025-03-21

[7]

用于去除蚀刻残留物的组合物及其使用方法和用途 [P].

孙来生 ;

王莉莉 ;

吴爱萍 ;

李翊嘉 ;

陈天牛 .

中国专利 :CN114450388A ,2022-05-06

[8]

一种去除蚀刻残留物的组合物 [P].

蔡贝克 ;

刘兵 ;

彭洪修 ;

李志豪 ;

温启蒙 .

中国专利 :CN120230612A ,2025-07-01

[9]

用于除去蚀刻残留物的组合物及其应用 [P].

M·埃格伯 .

中国专利 :CN100367114C ,2005-10-26

[10]

一种兼具WC去除和蚀刻残留物清洁的组合物 [P].

叶瑞 ;

谢建 ;

贺兆波 ;

吴政 ;

王亮 ;

孟牧麟 ;

刘春丽 ;

彭秋桂 ;

汪凡杰 ;

李宇 .

中国专利 :CN118185631A ,2024-06-14

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