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金属氧化物半导体元件和半导体结构
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200710003352.2
申请日
:
2007-02-02
公开(公告)号
:
CN101087001A
公开(公告)日
:
2007-12-12
发明(设计)人
:
黄健朝
杨富量
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
H01L2978
IPC分类号
:
H01L27092
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所
代理人
:
刘新宇
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2009-07-22
授权
授权
2008-02-06
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-12-12
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体结构及金属氧化物半导体元件
[P].
蔡邦彥
论文数:
0
引用数:
0
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0
蔡邦彥
.
中国专利
:CN101211964A
,2008-07-02
[2]
平面金属氧化物半导体栅极半导体元件结构
[P].
黄智方
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
黄智方
黄智方
黄智方
;
胡家玮
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
黄智方
黄智方
胡家玮
.
中国专利
:CN119029031A
,2024-11-26
[3]
金属氧化物半导体元件
[P].
郑志男
论文数:
0
引用数:
0
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0
郑志男
.
中国专利
:CN101359687B
,2009-02-04
[4]
高压金属氧化物半导体元件结构
[P].
陈锦隆
论文数:
0
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0
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0
陈锦隆
.
中国专利
:CN2845173Y
,2006-12-06
[5]
半导体结构及金属氧化物半导体元件的制作方法
[P].
葛崇祜
论文数:
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葛崇祜
;
李文钦
论文数:
0
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0
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0
李文钦
;
胡正明
论文数:
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0
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0
胡正明
.
中国专利
:CN101068028A
,2007-11-07
[6]
高压金属氧化物半导体元件
[P].
高境鸿
论文数:
0
引用数:
0
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0
高境鸿
.
中国专利
:CN1881613A
,2006-12-20
[7]
高压金属氧化物半导体元件
[P].
李治华
论文数:
0
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0
李治华
;
陈铭逸
论文数:
0
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0
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0
陈铭逸
.
中国专利
:CN2842739Y
,2006-11-29
[8]
高压金属氧化物半导体元件
[P].
陈锦隆
论文数:
0
引用数:
0
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0
陈锦隆
.
中国专利
:CN1971879A
,2007-05-30
[9]
半导体结构和形成金属氧化物半导体结构的方法
[P].
格伦·A·比利
论文数:
0
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格伦·A·比利
;
米切尔·L·斯廷
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米切尔·L·斯廷
.
中国专利
:CN100461463C
,2007-06-13
[10]
具有金属氧化物半导体结构的半导体装置
[P].
李奎沃
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李奎沃
;
俞在炫
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俞在炫
;
金贞敬
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金贞敬
;
宋周泫
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宋周泫
;
赵秀娟
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赵秀娟
;
洪元杓
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洪元杓
.
中国专利
:CN112825334A
,2021-05-21
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