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半导体器件和形成用于3D FO‑WLCSP的垂直互连结构的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201210029757.4
申请日
:
2012-02-10
公开(公告)号
:
CN102637608B
公开(公告)日
:
2012-08-15
发明(设计)人
:
林耀剑
陈康
申请人
:
申请人地址
:
新加坡新加坡市
IPC主分类号
:
H01L2156
IPC分类号
:
H01L2160
H01L21768
H01L2331
H01L23498
H01L23538
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
马丽娜;卢江
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2012-08-15
公开
公开
2014-03-05
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101574731183 IPC(主分类):H01L 21/56 专利申请号:2012100297574 申请日:20120210
2017-04-12
授权
授权
共 50 条
[1]
形成垂直互连结构的方法和半导体器件
[P].
林耀剑
论文数:
0
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0
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林耀剑
;
陈康
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陈康
.
中国专利
:CN103165477B
,2013-06-19
[2]
形成垂直互连结构的方法和半导体器件
[P].
林耀剑
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0
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林耀剑
;
陈康
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陈康
.
中国专利
:CN107731697B
,2018-02-23
[3]
在Fo-WLCSP中形成双面互连结构的半导体器件和方法
[P].
林耀剑
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林耀剑
;
陈康
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陈康
.
中国专利
:CN103681468B
,2014-03-26
[4]
半导体器件以及在FO-WLCSP中形成双侧互连结构的方法
[P].
林耀剑
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林耀剑
;
陈康
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陈康
.
中国专利
:CN103681362B
,2014-03-26
[5]
半导体器件和形成垂直互连的薄外形WLCSP的方法
[P].
池熺朝
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池熺朝
;
赵南柱
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赵南柱
;
申韩吉
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申韩吉
.
中国专利
:CN102157391A
,2011-08-17
[6]
在Fo-WLCSP中具有双面互连结构的半导体器件
[P].
林耀剑
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林耀剑
;
陈康
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陈康
.
中国专利
:CN203386745U
,2014-01-08
[7]
半导体器件和形成用于半导体器件的互连结构的方法
[P].
崔宰铭
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
崔宰铭
;
李长根
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李长根
;
洪元赫
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
洪元赫
;
徐康一
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
徐康一
.
韩国专利
:CN119314976A
,2025-01-14
[8]
形成互连结构和半导体器件的方法
[P].
李敬雨
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李敬雨
;
慎烘縡
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慎烘縡
;
金在鹤
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金在鹤
.
中国专利
:CN1812074A
,2006-08-02
[9]
半导体器件、形成互连结构的方法
[P].
张海洋
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张海洋
;
洪中山
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洪中山
;
周俊卿
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周俊卿
.
中国专利
:CN102760686B
,2012-10-31
[10]
形成半导体器件的互连结构的方法
[P].
吴永旭
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吴永旭
;
蔡政勋
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蔡政勋
;
张钰声
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张钰声
;
吴佳典
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吴佳典
;
李忠儒
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李忠儒
;
严永松
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严永松
;
陈俊光
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陈俊光
;
包天一
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包天一
;
刘如淦
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刘如淦
;
眭晓林
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眭晓林
.
中国专利
:CN106206412A
,2016-12-07
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