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功率半导体器件的高电压终止结构
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201711007642.4
申请日
:
2017-10-25
公开(公告)号
:
CN107978639A
公开(公告)日
:
2018-05-01
发明(设计)人
:
E.格里布尔
A.莫泽尔
M.普法芬莱纳
F.沃尔特
申请人
:
申请人地址
:
奥地利菲拉赫
IPC主分类号
:
H01L2978
IPC分类号
:
H01L29739
H01L21331
H01L21336
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
申屠伟进;杜荔南
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-05-25
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20171025
2021-07-13
授权
授权
2018-05-01
公开
公开
共 50 条
[1]
功率半导体器件的高电压终止结构
[P].
V.尤内维奥纳克
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0
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V.尤内维奥纳克
;
P.C.布兰特
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P.C.布兰特
;
F.希莱
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F.希莱
;
A.卢施泰克-佩赫洛夫
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A.卢施泰克-佩赫洛夫
;
F.D.普菲尔施
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F.D.普菲尔施
.
中国专利
:CN109638075A
,2019-04-16
[2]
功率半导体器件终止结构
[P].
J-G.鲍尔
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J-G.鲍尔
;
J.布兰登布格
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J.布兰登布格
;
E.法尔克
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E.法尔克
;
H-J.舒尔策
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H-J.舒尔策
.
中国专利
:CN107978640A
,2018-05-01
[3]
SiC上的高电压功率半导体器件
[P].
M·罗伯达
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M·罗伯达
;
G·钟
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G·钟
.
中国专利
:CN104246979A
,2014-12-24
[4]
功率半导体器件、生产功率半导体器件的方法
[P].
M·佩尔马尔
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
M·佩尔马尔
;
A·莫德
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
A·莫德
.
德国专利
:CN121174536A
,2025-12-19
[5]
高速高功率半导体器件
[P].
Y·杜
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Y·杜
;
V·阿帕林
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V·阿帕林
;
R·吉尔摩
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R·吉尔摩
.
中国专利
:CN103380497A
,2013-10-30
[6]
半导体器件终止结构和制造半导体器件终止结构的方法
[P].
B·帕德玛纳伯翰
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机构:
半导体元件工业有限责任公司
半导体元件工业有限责任公司
B·帕德玛纳伯翰
;
P·文卡特拉曼
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机构:
半导体元件工业有限责任公司
半导体元件工业有限责任公司
P·文卡特拉曼
.
美国专利
:CN118891733A
,2024-11-01
[7]
高电压半导体器件
[P].
费利克斯·西蒙·温特雷尔
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
费利克斯·西蒙·温特雷尔
;
克里斯蒂安·希佩尔
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
克里斯蒂安·希佩尔
;
迪尔克·普列费特
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英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
迪尔克·普列费特
;
安德烈·西德尔尼科夫
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
安德烈·西德尔尼科夫
.
:CN119181715A
,2024-12-24
[8]
功率半导体器件、生产功率半导体器件的方法
[P].
F·D·普菲尔施
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F·D·普菲尔施
;
T·昆齐格
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T·昆齐格
.
中国专利
:CN115602704A
,2023-01-13
[9]
功率半导体器件的终端结构及功率半导体器件
[P].
周振强
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周振强
;
江堂华
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江堂华
;
吴家键
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吴家键
;
蔡桥斌
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蔡桥斌
.
中国专利
:CN102208436B
,2011-10-05
[10]
功率半导体器件的散热结构及功率半导体器件
[P].
曹俊
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0
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0
曹俊
.
中国专利
:CN217933772U
,2022-11-29
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