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膜厚测定方法和膜厚测定装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201810236094.0
申请日
:
2018-03-21
公开(公告)号
:
CN108627105A
公开(公告)日
:
2018-10-09
发明(设计)人
:
三浦真德
高柳顺
申请人
:
申请人地址
:
日本爱知县
IPC主分类号
:
G01B1106
IPC分类号
:
代理机构
:
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
:
张轶楠;段承恩
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-10-09
公开
公开
2018-11-02
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/06 申请日:20180321
2020-06-09
授权
授权
共 50 条
[1]
膜厚测定装置和膜厚测定方法
[P].
山田健夫
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山田健夫
;
山本猛
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山本猛
;
河合慎吾
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河合慎吾
.
中国专利
:CN103459976A
,2013-12-18
[2]
膜厚测定装置和膜厚测定方法
[P].
八寻俊一
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八寻俊一
;
尾上幸太朗
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尾上幸太朗
;
田中茂喜
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田中茂喜
.
中国专利
:CN106017337A
,2016-10-12
[3]
膜厚测定装置和膜厚测定方法
[P].
岩永修儿
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岩永修儿
;
西山直
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西山直
;
加藤宽三
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加藤宽三
.
中国专利
:CN105097587B
,2015-11-25
[4]
膜厚测定装置以及膜厚测定方法
[P].
山田健夫
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山田健夫
;
山本猛
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山本猛
;
山仓崇宽
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山仓崇宽
;
林真治
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林真治
;
河合慎吾
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河合慎吾
.
中国专利
:CN101981406A
,2011-02-23
[5]
膜厚测定装置及膜厚测定方法
[P].
土屋邦彦
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
土屋邦彦
;
荒野谕
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
荒野谕
;
大塚贤一
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
大塚贤一
.
日本专利
:CN117355724A
,2024-01-05
[6]
膜厚测定装置及膜厚测定方法
[P].
黑川政秋
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黑川政秋
;
安井润
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安井润
;
见持圭一
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见持圭一
;
盐谷成敏
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盐谷成敏
.
中国专利
:CN103765156B
,2014-04-30
[7]
膜厚测定装置及膜厚测定方法
[P].
大冢贤一
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
大冢贤一
;
森岛康太
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
森岛康太
;
土屋邦彦
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
土屋邦彦
.
日本专利
:CN120604098A
,2025-09-05
[8]
膜厚测定装置及膜厚测定方法
[P].
大冢贤一
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
大冢贤一
;
森岛康太
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
森岛康太
;
土屋邦彦
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
土屋邦彦
;
高桥辉雄
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
高桥辉雄
.
日本专利
:CN120500609A
,2025-08-15
[9]
膜厚测定装置、膜厚测定系统及膜厚测定方法
[P].
青木诚志
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机构:
本田技研工业株式会社
本田技研工业株式会社
青木诚志
.
日本专利
:CN120721008A
,2025-09-30
[10]
膜厚测定装置及膜厚测定方法
[P].
大塚贤一
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大塚贤一
;
中野哲寿
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中野哲寿
;
渡边元之
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渡边元之
.
中国专利
:CN102483320A
,2012-05-30
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