半导体结构及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201410604149.0
申请日
2014-10-30
公开(公告)号
CN105590859A
公开(公告)日
2016-05-18
发明(设计)人
黄敬勇 何其暘
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2978
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
应战;骆苏华
法律状态
授权
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
蔡巧明 ;
魏兰英 .
中国专利 :CN113496885B ,2024-03-22
[2]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
蔡巧明 ;
魏兰英 .
中国专利 :CN113496885A ,2021-10-12
[3]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN104617093B ,2015-05-13
[4]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
樊永帅 ;
付宇 ;
柴杉杉 ;
薛晓凡 .
中国专利 :CN120456575A ,2025-08-08
[5]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN105655253B ,2016-06-08
[6]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN105655398A ,2016-06-08
[7]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
王文博 .
中国专利 :CN114864653A ,2022-08-05
[8]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
洪中山 .
中国专利 :CN103915384A ,2014-07-09
[9]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
刘佳磊 .
中国专利 :CN105826236A ,2016-08-03
[10]
半导体结构及其形成方法和半导体器件 [P]. 
张志伟 .
中国专利 :CN113539944A ,2021-10-22