半导体结构及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201310006390.9
申请日
2013-01-08
公开(公告)号
CN103915384A
公开(公告)日
2014-07-09
发明(设计)人
洪中山
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L218234
IPC分类号
H01L21768 H01L21336 H01L27088 H01L2978
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
骆苏华
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
樊永帅 ;
付宇 ;
柴杉杉 ;
薛晓凡 .
中国专利 :CN120456575A ,2025-08-08
[2]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
王文博 .
中国专利 :CN114864653A ,2022-08-05
[3]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
蔡巧明 ;
魏兰英 .
中国专利 :CN113496885B ,2024-03-22
[4]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
蔡巧明 ;
魏兰英 .
中国专利 :CN113496885A ,2021-10-12
[5]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
黄敬勇 ;
何其暘 .
中国专利 :CN105590859A ,2016-05-18
[6]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
张海洋 ;
郑喆 .
中国专利 :CN106206304A ,2016-12-07
[7]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
陈冠霖 ;
江国诚 ;
朱熙甯 ;
王志豪 ;
程冠伦 .
中国专利 :CN113224057A ,2021-08-06
[8]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN104617093B ,2015-05-13
[9]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
景友亮 ;
范朋伟 .
中国专利 :CN120711817A ,2025-09-26
[10]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
三重野文健 ;
周永昌 .
中国专利 :CN116313810B ,2025-12-16