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一种用于减少基片背面聚合物的装置

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200910056086.9
申请日：
2009-08-07
公开(公告)号：
CN101989543B
公开(公告)日：
2011-03-23
发明(设计)人：
倪图强 徐朝阳 吴狄 陈妙娟
申请人：
申请人地址：
201201 上海市浦东金桥出口加工区(南区)泰华路188号
IPC主分类号：
H01L213065
IPC分类号：
C30B3312
代理机构：
上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249
代理人：
朱九皋
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2011-03-23 公开 公开
2017-09-05 专利权质押合同登记的生效、变更及注销 专利权质押合同登记的注销 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101758727434 IPC(主分类):H01L 21/3065 授权公告日:20120905 申请日:20090807 专利号:ZL2009100560869 登记号:2009310000663 出质人:中微半导体设备(上海)有限公司 质权人:国家开发银行股份有限公司 解除日:20170809
2012-09-05 授权 授权
2011-05-04 实质审查的生效 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101068902602 IPC(主分类):H01L 21/3065 专利申请号:2009100560869 申请日:20090807
2019-04-05 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/3065 变更事项:专利权人 变更前:中微半导体设备(上海)有限公司 变更后:中微半导体设备（上海）股份有限公司 变更事项:地址 变更前:201201 上海市浦东金桥出口加工区(南区)泰华路188号 变更后:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号
2015-04-22 专利权质押合同登记的生效、变更及注销 专利权质押合同登记的生效 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101712122894 IPC(主分类):H01L 21/3065 专利号:ZL2009100560869 登记号:2009310000663 登记生效日:20150202 出质人:中微半导体设备(上海)有限公司 质权人:国家开发银行股份有限公司 发明名称:一种用于减少基片背面聚合物的装置 申请日:20090807 授权公告日:20120905
共 50 条
[1]
一种可减少基片背面聚合物的结构 [P]. 
倪图强 ;
孟双 ;
徐朝阳 .
中国专利 :CN101989544B ,2011-03-23
[2]
防止/减少基片背面聚合物沉积的方法和装置 [P]. 
倪图强 ;
尹志尧 .
中国专利 :CN101477945B ,2009-07-08
[3]
一种减少晶片背面生成聚合物的聚焦环 [P]. 
吴紫阳 ;
邱达燕 .
中国专利 :CN103187232B ,2013-07-03
[4]
具有减少基片上聚合物沉积部件的等离子体装置以及减少聚合物沉积的方法 [P]. 
J·东 ;
E·H·伦兹 .
中国专利 :CN100351989C ,2005-10-12
[5]
具有减少基片上聚合物沉积部件的等离子体装置以及减少聚合物沉积的方法 [P]. 
J·东 ;
E·H·伦兹 .
中国专利 :CN100533658C ,2008-03-05
[6]
用于斜面聚合物减少的边缘环 [P]. 
R·米什拉 ;
G·J·斯科特 ;
K·M·西拉朱迪茵 ;
S·L·图西巴格威尔 ;
S·西卢纳乌卡拉苏 .
中国专利 :CN106057616A ,2016-10-26
[7]
用于斜面聚合物减少的边缘环 [P]. 
R·米什拉 ;
G·J·斯科特 ;
K·M·西拉朱迪茵 ;
S·L·图西巴格威尔 ;
S·西卢纳乌卡拉苏 .
中国专利 :CN205984889U ,2017-02-22
[8]
一种清洁晶片背面聚合物的装置和方法 [P]. 
吴紫阳 ;
邱达燕 ;
万磊 ;
彭帆 .
中国专利 :CN103165494A ,2013-06-19
[9]
用于从基片上去除边缘聚合物的装置 [P]. 
衡石·亚历山大·尹 ;
金允尚 ;
贾森·A·赖德 ;
安德鲁·D·贝利三世 .
中国专利 :CN101273439B ,2008-09-24
[10]
减少聚合物沉积的设备 [P]. 
A·恩古耶 ;
X·常 ;
S·劳夫 ;
J·A·肯尼 .
中国专利 :CN210722949U ,2020-06-09
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