硅通孔结构的制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201410027745.7
申请日
2014-01-21
公开(公告)号
CN104795355A
公开(公告)日
2015-07-22
发明(设计)人
高燕 朱赛亚 董天化 马孝田 霍燕丽
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江高科技园区张江路18号
IPC主分类号
H01L21768
IPC分类号
代理机构
上海申新律师事务所 31272
代理人
俞涤炯
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
硅通孔结构的制备方法 [P]. 
陈怡骏 ;
游宽结 ;
张彰 .
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[2]
一种硅通孔结构及其制备方法 [P]. 
胡超 .
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[3]
硅通孔的制造方法 [P]. 
郁新举 .
中国专利 :CN112908933A ,2021-06-04
[4]
硅通孔结构及其制备方法 [P]. 
何洪涛 ;
杨志 ;
胥超 ;
解涛 .
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[5]
硅通孔结构及其制备方法 [P]. 
胡超 .
中国专利 :CN117374031A ,2024-01-09
[6]
硅通孔的形成方法 [P]. 
许金海 ;
唐强 ;
林保璋 .
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[7]
掩膜结构/硅通孔的制备方法、半导体结构 [P]. 
李宗翰 ;
韩清华 .
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[8]
硅通孔填充结构以及硅通孔的填充方法 [P]. 
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[9]
具有硅通孔的半导体结构及其制备方法 [P]. 
康庭慈 .
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[10]
硅通孔结构及其制造方法 [P]. 
卢意飞 .
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