辐射源、光刻设备以及器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980128327.4

申请日：

2009-07-29

公开(公告)号：

CN102099747B

公开(公告)日：

2011-06-15

发明(设计)人：

A·M·雅库尼恩 V·Y·班尼恩 J·H·J·莫尔斯 L·A·斯佳梅诺克

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B520

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-09-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101111315017 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801283274 申请日:20090729
2011-06-15	公开	公开
2013-06-19	授权	授权

共 50 条

[21]

辐射收集器、辐射源以及光刻设备 [P].

I·范德瓦哈伦 ;

A·斯卓克肯 ;

J·弗兰肯 .

中国专利 :CN105122140A ,2015-12-02

[22]

用于监测辐射源的装置、辐射源、监测辐射源的方法、器件制造方法 [P].

E·W·伯加特 ;

赵创新 .

中国专利 :CN107077073A ,2017-08-18

[23]

控制辐射源和包括辐射源的光刻设备的方法 [P].

W·奥普特鲁特 ;

A·博默 ;

R·德琼 ;

F·埃弗茨 ;

H·戈德弗雷德 ;

R·斯托尔克 ;

P·范德文 .

中国专利 :CN105229535B ,2016-01-06

[24]

辐射源模块和光刻设备 [P].

H·帕特尔 ;

马悦 ;

G·纳基伯格鲁 ;

A·P·里杰普马 ;

A·J·范德内特 ;

R·H·弗黑斯 ;

阳宗全 .

中国专利 :CN110799904A ,2020-02-14

[25]

EUV辐射源和光刻设备 [P].

E·鲁普斯特拉 ;

G·斯温克尔斯 ;

E·布雷曼 ;

W·梅斯特龙 .

中国专利 :CN102714911A ,2012-10-03

[26]

用于辐射源的部件、关联的辐射源和光刻设备 [P].

H-K·尼恩惠斯 .

中国专利 :CN105408817A ,2016-03-16

[27]

导管系统、辐射源、光刻设备及其方法 [P].

T·D·斯泰格 .

美国专利 :CN120322923A ,2025-07-15

[28]

辐射源设备和方法、光刻设备和检查设备 [P].

N·斯伯克 ;

P·C·M·普兰肯 .

中国专利 :CN110088682B ,2019-08-02

[29]

用于光刻的辐射源和方法 [P].

H·G·席梅尔 ;

M·里彭 ;

R·吉利森 ;

D·德格拉夫 .

中国专利 :CN108828903A ,2018-11-16

[30]

用于光刻的辐射源和方法 [P].

H·席梅尔 ;

M·里彭 ;

R·吉利森 ;

D·德格拉夫 .

中国专利 :CN104798445A ,2015-07-22

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