辐射源、光刻设备以及器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980128327.4

申请日：

2009-07-29

公开(公告)号：

CN102099747B

公开(公告)日：

2011-06-15

发明(设计)人：

A·M·雅库尼恩 V·Y·班尼恩 J·H·J·莫尔斯 L·A·斯佳梅诺克

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B520

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-09-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101111315017 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801283274 申请日:20090729
2011-06-15	公开	公开
2013-06-19	授权	授权

共 50 条

[41]

辐射源测试 [P].

R·A·布尔德特 ;

T·P·达菲 .

美国专利 :CN114631061B ,2025-09-12

[42]

光刻设备、辐射系统、器件制造方法以及碎片减少方法 [P].

O·弗里基恩斯 ;

J·弗兰肯 ;

K·杰里森 .

中国专利 :CN102216853B ,2011-10-12

[43]

包括液滴加速器的EUV辐射源以及光刻设备 [P].

W·麦斯特姆 ;

E·鲁普斯特拉 ;

G·斯温克尔斯 ;

E·布耳曼 .

中国专利 :CN102696283A ,2012-09-26

[44]

具有等离子体辐射源的设备和形成辐射束的方法以及光刻设备 [P].

V·M·克里夫特逊 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊娃诺夫 ;

E·D·克洛普 ;

K·N·克什烈夫 ;

Y·V·斯戴尼克夫 ;

O·雅克什夫 .

中国专利 :CN102681362A ,2012-09-19

[45]

源收集器设备、光刻设备以及器件制造方法 [P].

E·鲁普斯特拉 ;

V·班尼恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

S·皮克尔德 ;

D·兰贝特斯基 ;

U·斯坦姆 ;

W·N·帕特劳 .

中国专利 :CN102576195B ,2012-07-11

[46]

具有等离子体辐射源的设备和形成辐射束的方法以及光刻设备 [P].

V·M·克里夫特逊 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊娃诺夫 ;

E·D·克洛普 ;

K·N·克什烈夫 ;

Y·V·斯戴尼克夫 ;

O·雅克什夫 .

中国专利 :CN101606104A ,2009-12-16

[47]

极紫外辐射源装置 [P].

杨基 ;

林圣达 ;

钟仁阳 ;

简上傑 ;

陈立锐 ;

郑博中 .

中国专利 :CN110837208A ,2020-02-25

[48]

极紫外辐射源装置 [P].

吕建兴 ;

涂志强 ;

温志伟 ;

曾信富 ;

徐子正 .

中国专利 :CN222461889U ,2025-02-11

[49]

微型LED紫外辐射源及其制造方法 [P].

岸本克彦 .

中国专利 :CN113614935A ,2021-11-05

[50]

光刻设备、器件制造方法、以及由此制造的器件 [P].

J·H·J·穆尔斯 ;

J·C·L·弗兰肯 ;

U·米坎 ;

H·－J·沃尔马 .

中国专利 :CN1648777A ,2005-08-03

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