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一种带有绝缘埋层的厚膜材料的制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201010211396.6
申请日
:
2010-06-25
公开(公告)号
:
CN101901753B
公开(公告)日
:
2010-12-01
发明(设计)人
:
魏星
王湘
杨建
张苗
王曦
林成鲁
申请人
:
申请人地址
:
201821 上海市嘉定区普惠路200号
IPC主分类号
:
H01L2120
IPC分类号
:
H01L21762
代理机构
:
上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218
代理人
:
翟羽
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2010-12-01
公开
公开
2012-05-23
授权
授权
2011-06-01
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101075696306 IPC(主分类):H01L 21/20 专利申请号:2010102113966 申请日:20100625
共 50 条
[1]
带有绝缘埋层的半导体结构及其制备方法
[P].
范春晖
论文数:
0
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0
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0
范春晖
;
王全
论文数:
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0
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0
王全
.
中国专利
:CN103022139A
,2013-04-03
[2]
带有绝缘埋层衬底的制备方法
[P].
魏星
论文数:
0
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0
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0
魏星
;
王文宇
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王文宇
;
曹共柏
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0
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0
曹共柏
.
中国专利
:CN102768981B
,2012-11-07
[3]
一种具有绝缘埋层的半导体衬底的制备方法
[P].
魏星
论文数:
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魏星
;
王湘
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王湘
;
李显元
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李显元
;
张苗
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张苗
;
王曦
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王曦
;
林成鲁
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0
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林成鲁
.
中国专利
:CN101604631A
,2009-12-16
[4]
带有绝缘埋层的衬底的制备方法
[P].
张苗
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0
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张苗
;
张波
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张波
.
中国专利
:CN101355024A
,2009-01-28
[5]
一种制备任意厚度的带有绝缘埋层的衬底的方法
[P].
张峰
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张峰
;
曹共柏
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曹共柏
;
魏星
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魏星
;
王文宇
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王文宇
;
王曦
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0
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0
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0
王曦
.
中国专利
:CN102201362A
,2011-09-28
[6]
带有绝缘埋层的辐射加固材料及其制备方法
[P].
毕大炜
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0
毕大炜
;
魏星
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魏星
;
陈明
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陈明
;
武爱民
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武爱民
;
张正选
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张正选
;
黄辉祥
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黄辉祥
.
中国专利
:CN102569061A
,2012-07-11
[7]
制备带有绝缘埋层的半导体衬底的方法以及半导体衬底
[P].
魏星
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魏星
;
仰庶
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仰庶
;
曹共柏
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0
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0
曹共柏
;
张峰
论文数:
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0
张峰
;
王曦
论文数:
0
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0
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0
王曦
.
中国专利
:CN102299093A
,2011-12-28
[8]
铟砷锑厚膜材料的制备方法
[P].
胡淑红
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胡淑红
;
戴宁
论文数:
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0
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戴宁
.
中国专利
:CN101275280A
,2008-10-01
[9]
一种带有绝缘埋层的晶圆的表面处理方法
[P].
陈杰
论文数:
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0
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陈杰
;
叶斐
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叶斐
;
李显元
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李显元
;
陈国兴
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陈国兴
.
中国专利
:CN101707187B
,2010-05-12
[10]
腐蚀带有绝缘埋层的衬底边缘的方法
[P].
王湘
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0
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王湘
;
魏星
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0
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0
魏星
.
中国专利
:CN101599452B
,2009-12-09
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