半导体装置的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN200610105640.4
申请日
2006-07-17
公开(公告)号
CN1901164A
公开(公告)日
2007-01-24
发明(设计)人
饭田伊豆雄
申请人
申请人地址
日本大阪府
IPC主分类号
H01L21822
IPC分类号
代理机构
北京市柳沈律师事务所
代理人
陶凤波;侯宇
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
小山路子 ;
奥裕一朗 .
中国专利 :CN102544072A ,2012-07-04
[2]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
堤香里 ;
福原成太 ;
江泽弘和 .
中国专利 :CN1381890A ,2002-11-27
[3]
半导体装置的制造方法 [P]. 
福田干夫 ;
藤岛达也 .
中国专利 :CN1773685A ,2006-05-17
[4]
半导体装置的制造方法 [P]. 
西田征男 ;
太田和伸 .
中国专利 :CN1531038A ,2004-09-22
[5]
半导体装置的制造方法 [P]. 
尾关和之 ;
后藤佑治 .
中国专利 :CN100370600C ,2006-01-11
[6]
半导体装置和半导体装置的制造方法 [P]. 
宫野清孝 ;
大内和也 ;
水岛一郎 .
中国专利 :CN1638065A ,2005-07-13
[7]
半导体装置的制造方法和半导体装置 [P]. 
横井直树 .
中国专利 :CN1331487A ,2002-01-16
[8]
半导体装置的制造方法以及半导体装置 [P]. 
舛冈富士雄 ;
原田望 ;
中村広记 ;
李翔 ;
王新朋 ;
陈智贤 ;
阿席特·拉玛昌德拉·卡玛斯 ;
拿伐布·星 .
中国专利 :CN103582937A ,2014-02-12
[9]
半导体装置和半导体装置的制造方法 [P]. 
宫野清孝 ;
大内和也 ;
水岛一郎 .
中国专利 :CN1237620C ,2003-08-13
[10]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
石田雅宏 .
中国专利 :CN1229280A ,1999-09-22