热处理设备以及半导体装置制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN201080034385.3
申请日
2010-08-03
公开(公告)号
CN102473641A
公开(公告)日
2012-05-23
发明(设计)人
土井浩志 柴垣真果 流石勇一
申请人
申请人地址
日本神奈川
IPC主分类号
H01L21324
IPC分类号
H01L21265
代理机构
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人
蒋旭荣
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
热处理装置及半导体装置的制造方法 [P]. 
山崎惠信 ;
林田晃 ;
上野正昭 ;
泉学 ;
野上克明 .
中国专利 :CN102194661A ,2011-09-21
[2]
基板处理方法、热处理装置以及半导体制造设备 [P]. 
李成龙 ;
吴明焕 ;
朴圣圭 .
韩国专利 :CN118136501A ,2024-06-04
[3]
保温装置以及半导体热处理设备 [P]. 
郭信鸽 ;
胡晨宇 ;
位思梦 ;
孙妍 ;
孟磊 ;
张翰宁 .
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[4]
半导体装置的制造方法、热处理装置以及存储介质 [P]. 
冈田充弘 .
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[5]
热处理方法、热处理装置及半导体装置的制造方法 [P]. 
前川泰之 ;
小林直之 .
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[6]
热处理装置、热处理方法和半导体装置的制造方法 [P]. 
物种武士 ;
川濑佑介 ;
南竹春彦 ;
巽裕章 ;
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[7]
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周洋 ;
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[8]
半导体装置的制造装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
高木保志 ;
山下钦也 ;
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[9]
半导体装置、半导体装置的制造方法以及设备 [P]. 
庄山敏弘 .
日本专利 :CN110098210B ,2024-02-23
[10]
半导体装置、半导体装置的制造方法以及设备 [P]. 
庄山敏弘 .
中国专利 :CN110098210A ,2019-08-06