等离子体处理方法及等离子体灰化装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210252672.2
申请日
2012-07-20
公开(公告)号
CN102891061A
公开(公告)日
2013-01-23
发明(设计)人
工藤丰 桧山真
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01J3732
IPC分类号
代理机构
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人
王永红
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体处理方法以及等离子体灰化装置 [P]. 
伊东亨 ;
森政士 ;
金清任光 .
中国专利 :CN110808210A ,2020-02-18
[2]
等离子体灰化方法 [P]. 
田原慈 ;
星直嗣 .
中国专利 :CN1929096A ,2007-03-14
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
村上贵宏 .
中国专利 :CN102693892A ,2012-09-26
[4]
等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P]. 
森口尚树 .
中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
堀口贵弘 .
中国专利 :CN101005007A ,2007-07-25
[6]
等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
高山航 ;
近江宗行 ;
伊深怜 ;
五十岚大 ;
铃木贵幸 ;
村上贵宏 .
中国专利 :CN110246739A ,2019-09-17
[7]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P]. 
齐藤均 ;
佐藤亮 .
中国专利 :CN101465283A ,2009-06-24
[8]
等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
高山航 ;
近江宗行 ;
伊深怜 ;
五十岚大 ;
铃木贵幸 ;
村上贵宏 .
日本专利 :CN110246739B ,2024-07-02
[9]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P]. 
齐藤均 ;
佐藤亮 .
中国专利 :CN101969016A ,2011-02-09
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
小林义之 .
中国专利 :CN100508116C ,2007-09-26