半导体工艺设备的进气装置及半导体工艺设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202021626404.9
申请日
2020-08-06
公开(公告)号
CN213146096U
公开(公告)日
2021-05-07
发明(设计)人
夏振军
申请人
申请人地址
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号
F17D104
IPC分类号
F17D301 H01L2102
代理机构
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人
彭瑞欣;王婷
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体工艺设备的进气装置及半导体工艺设备 [P]. 
伊藤正雄 ;
林源为 .
中国专利 :CN115074701A ,2022-09-20
[2]
半导体工艺设备的进气装置及半导体工艺设备 [P]. 
赵庆峰 ;
王晓飞 .
中国专利 :CN112359343B ,2021-02-12
[3]
半导体工艺设备的进气系统、半导体工艺设备及进气方法 [P]. 
刘振昊 .
中国专利 :CN118057588A ,2024-05-21
[4]
进气装置及半导体工艺设备 [P]. 
刘胜明 ;
郑波 ;
荣延栋 .
中国专利 :CN114743903B ,2025-08-26
[5]
进气装置和半导体工艺设备 [P]. 
穆帅 ;
余峰 .
中国专利 :CN222349185U ,2025-01-14
[6]
进气装置及半导体工艺设备 [P]. 
涂天佑 .
中国专利 :CN121096840A ,2025-12-09
[7]
进气装置及半导体工艺设备 [P]. 
李红 .
中国专利 :CN119372618A ,2025-01-28
[8]
进气装置及半导体工艺设备 [P]. 
刘胜明 ;
郑波 ;
荣延栋 .
中国专利 :CN114743903A ,2022-07-12
[9]
半导体工艺设备 [P]. 
段文旭 ;
卢翌 .
中国专利 :CN222349120U ,2025-01-14
[10]
半导体工艺设备中的基座及半导体工艺设备 [P]. 
高雄 .
中国专利 :CN212934586U ,2021-04-09