新颖的染料掺杂剂、包含此染料掺杂剂的组合物、以及包括此组合物的光电组件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910253858.8

申请日：

2009-12-03

公开(公告)号：

CN102086308A

公开(公告)日：

2011-06-08

发明(设计)人：

王瑞仁王立义梁晋伟

申请人：

申请人地址：

中国台湾台北县土城市承天路6号

IPC主分类号：

C09B5700

IPC分类号：

C07D41714 H01L5142 H01L5146

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

彭茜茜;白益华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-07-20	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101089510679 IPC(主分类):C09B 57/00 专利申请号:2009102538588 申请日:20091203
2013-07-17	授权	授权
2011-06-08	公开	公开

共 50 条

[1]

掺杂剂组合物、掺杂剂注入层和掺杂层的形成方法 [P].

今村哲也 ;

富泽由香 ;

池田吉纪 .

中国专利 :CN106887384B ,2017-06-23

[2]

包含掺杂剂的墨水 [P].

R·Y·梁 ;

D·周 ;

W·范 .

中国专利 :CN101965628B ,2011-02-02

[3]

纳米材料‑掺杂剂组合物复合体制造方法、纳米材料‑掺杂剂组合物复合体及掺杂剂组合物 [P].

野野口斐之 ;

河合壮 ;

中野元博 .

中国专利 :CN106463603A ,2017-02-22

[4]

纳米材料‑掺杂剂组合物复合体制造方法、纳米材料‑掺杂剂组合物复合体和掺杂剂组合物 [P].

野野口斐之 ;

河合壮 ;

上绀屋史彦 ;

大桥贤次 ;

武田一宏 .

中国专利 :CN106415866A ,2017-02-15

[5]

用于在半导体基底中形成掺杂区域的掺杂剂油墨组合物，以及用于制造掺杂剂油墨组合物的方法 [P].

周理古 ;

R.A.斯皮尔 ;

R.Y-K.梁 ;

樊文亚 ;

H.X.徐 ;

L.M.梅廷 ;

A.S.布哈纳普 .

中国专利 :CN103890107A ,2014-06-25

[6]

用于离子注入的掺杂剂组合物 [P].

A·雷伊尼克尔 ;

A·K·辛哈 .

中国专利 :CN109362231B ,2019-02-19

[7]

通过包含聚合物膜的掺杂剂掺杂基材 [P].

P·特雷福纳斯三世 ;

R·A·赛格曼 ;

M·L·霍弗瑞斯特 ;

A·吉维 ;

竹井邦晴 .

中国专利 :CN104599956A ,2015-05-06

[8]

包含可释放掺杂剂的粒子 [P].

K·S·芬尼 ;

C·J·A·巴布 ;

孔令根 .

中国专利 :CN101242814A ,2008-08-13

[9]

主体化合物和掺杂剂化合物的组合 [P].

K-J·李 ;

S-K·尹 ;

C-S·金 ;

H·金 ;

S-W·李 ;

S-Y·钟 ;

S-H·李 ;

J-E·杨 ;

Y-K·金 ;

Y-J·曹 ;

K-J·朴 ;

S-W·蒋 .

中国专利 :CN105531349A ,2016-04-27

[10]

含硼掺杂剂组合物、使用其的系统和方法 [P].

A.K.辛哈 ;

S.M.史密斯 ;

D.C.海德曼 ;

S.M.坎珀 .

中国专利 :CN109119316B ,2019-01-01

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