一种横向诱导晶化低温多晶硅薄膜的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010175536.9
申请日
2010-05-17
公开(公告)号
CN101853784B
公开(公告)日
2010-10-06
发明(设计)人
赵淑云
申请人
申请人地址
528225 广东省佛山市南海区狮山经济开发区北园中路11号
IPC主分类号
H01L2120
IPC分类号
H01L21316
代理机构
北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280
代理人
王勇
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
一种用于横向诱导晶化低温多晶硅薄膜的多层膜结构 [P]. 
赵淑云 .
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[2]
基于横向诱导晶化多晶硅薄膜的薄膜晶体管的制备方法 [P]. 
赵淑云 .
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[3]
表面修饰溶液诱导晶化多晶硅薄膜的制备方法 [P]. 
熊绍珍 ;
吴春亚 ;
李学东 ;
孟志国 ;
李娟 ;
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[4]
一种低温多晶硅薄膜的制备方法及低温多晶硅薄膜 [P]. 
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[5]
低温多晶硅薄膜的制作方法、低温多晶硅薄膜及低温多晶硅TFT基板 [P]. 
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卢马才 ;
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[6]
多晶硅薄膜及用非晶硅低温诱导制备多晶硅薄膜的方法 [P]. 
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[7]
一种低温多晶硅薄膜的制作方法和低温多晶硅薄膜 [P]. 
田雪雁 ;
龙春平 ;
姚江峰 .
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[8]
一种掩膜金属诱导晶化的多晶硅薄膜 [P]. 
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[9]
低温多晶硅薄膜的制备方法、制备设备及低温多晶硅薄膜 [P]. 
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[10]
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史伟民 ;
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