半导体器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201611236524.6
申请日
2016-12-28
公开(公告)号
CN106952920B
公开(公告)日
2017-07-14
发明(设计)人
津田是文 山下朋弘
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L2711521
IPC分类号
H01L2711568
代理机构
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
李辉;张昊
法律状态
授权
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
佐山弘和 .
中国专利 :CN103311246A ,2013-09-18
[2]
半导体器件制造方法及其半导体器件 [P]. 
杉井信之 ;
中川清和 ;
山口伸也 ;
宫尾正信 .
中国专利 :CN1716570A ,2006-01-04
[3]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
金大植 .
中国专利 :CN101335240B ,2008-12-31
[4]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
骆志炯 ;
尹海洲 ;
朱慧珑 .
中国专利 :CN102074479A ,2011-05-25
[5]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
张青淳 .
中国专利 :CN108346577B ,2018-07-31
[6]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
郝荣晖 ;
黄敬源 .
中国专利 :CN111106163A ,2020-05-05
[7]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
松尾浩司 .
中国专利 :CN1190851C ,2002-05-01
[8]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
渡部浩 ;
成毛清美 ;
增田和纪 .
中国专利 :CN1354522A ,2002-06-19
[9]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
朴圣根 .
中国专利 :CN103247623B ,2013-08-14
[10]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
张炳琸 .
中国专利 :CN101290936A ,2008-10-22