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混合极性的GaN器件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610152348.1
申请日
:
2016-03-17
公开(公告)号
:
CN105789281B
公开(公告)日
:
2016-07-20
发明(设计)人
:
王现彬
王颖莉
刘振永
于京生
申请人
:
申请人地址
:
050035 河北省石家庄市高新技术产业开发区长江大道6号
IPC主分类号
:
H01L2945
IPC分类号
:
H01L29778
代理机构
:
石家庄国为知识产权事务所 13120
代理人
:
王占华
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-01-29
授权
授权
2016-08-17
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/45 专利申请号:2016101523481 申请日:20160317 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101674701626
2016-07-20
公开
公开
共 50 条
[1]
混合极性的GaN器件及其制备方法
[P].
黄捷
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黄捷
;
张国庆
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张国庆
;
程强
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程强
;
张立星
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张立星
;
李剑博
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李剑博
.
中国专利
:CN114883404A
,2022-08-09
[2]
氮极性GaN晶体管
[P].
赵正平
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赵正平
;
冯志红
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冯志红
;
王现彬
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王现彬
;
王元刚
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王元刚
;
邹学锋
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邹学锋
;
吕元杰
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吕元杰
;
房玉龙
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房玉龙
;
敦少博
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敦少博
.
中国专利
:CN104409492A
,2015-03-11
[3]
蓝宝石衬底上的氮‑极性的半极性GaN层和器件
[P].
韩重
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韩重
;
本亚明·梁
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本亚明·梁
.
中国专利
:CN106233471A
,2016-12-14
[4]
一种非极性GaN基LED
[P].
高芳亮
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高芳亮
.
中国专利
:CN218482266U
,2023-02-14
[5]
GaN器件及制备方法
[P].
莫炯炯
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莫炯炯
;
王志宇
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王志宇
;
陈华
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陈华
;
刘家瑞
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刘家瑞
;
郁发新
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郁发新
.
中国专利
:CN111584619A
,2020-08-25
[6]
一种A1GaN/GaN HEMT器件的隔离方法
[P].
张进城
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张进城
;
董作典
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董作典
;
郝跃
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郝跃
;
郑鹏天
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郑鹏天
;
秦雪雪
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秦雪雪
;
刘林杰
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刘林杰
;
王冲
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王冲
;
冯倩
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冯倩
.
中国专利
:CN101252100A
,2008-08-27
[7]
GaN器件的制作方法及GaN器件
[P].
陈一峰
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陈一峰
.
中国专利
:CN105655236A
,2016-06-08
[8]
GaN基复合衬底、GaN基器件及其制作方法
[P].
刘凯
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刘凯
.
中国专利
:CN115410971A
,2022-11-29
[9]
GaN基复合衬底、GaN基器件及其制作方法
[P].
刘凯
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机构:
苏州晶湛半导体有限公司
苏州晶湛半导体有限公司
刘凯
.
中国专利
:CN115410971B
,2025-11-25
[10]
用于GaN器件的非对称塞块技术
[P].
A·库迪莫夫
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A·库迪莫夫
;
L·刘
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L·刘
;
J·拉姆达尼
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J·拉姆达尼
.
中国专利
:CN109616521A
,2019-04-12
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