等离子体发生装置及等离子体处理方法

被引：0

申请号：

CN201980100638.3

申请日：

2019-09-27

公开(公告)号：

CN114430935A

公开(公告)日：

2022-05-03

发明(设计)人：

池户俊之岩田卓也白木聪一

申请人：

申请人地址：

日本爱知县知立市

IPC主分类号：

H05H126

IPC分类号：

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

杨青;安翔

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/26 申请日:20190927
2022-05-03	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体流生成方法、等离子体处理方法、等离子体发生装置和等离子体处理装置 [P].

鹭坂圭亮 ;

野口义文 .

中国专利 :CN102939404A ,2013-02-20

[2]

等离子体发生装置及等离子体产生方法 [P].

岩田卓也 ;

土田纮佑 .

日本专利 :CN117677019A ,2024-03-08

[3]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

三浦繁博 ;

加藤寿 ;

佐藤润 ;

中坪敏行 ;

菊地宏之 .

中国专利 :CN105097459A ,2015-11-25

[4]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

妻屋圆 ;

寺井弘和 .

日本专利 :CN119072771A ,2024-12-03

[5]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

周虎 ;

刘身健 ;

谢小兵 ;

严利均 .

中国专利 :CN106937472A ,2017-07-07

[6]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

奥村智洋 ;

中山一郎 ;

川浦广 ;

幸本彻哉 .

中国专利 :CN102387653A ,2012-03-21

[7]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

叶如彬 ;

倪图强 .

中国专利 :CN103476196A ,2013-12-25

[8]

微波等离子体发生装置、微波等离子体处理装置和微波等离子体处理方法 [P].

中川清和 ;

宇佐美由久 .

日本专利 :CN119586328A ,2025-03-07

[9]

等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

森口尚树 .

中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25

[10]

等离子体产生装置及等离子体处理方法 [P].

岩田卓也 .

中国专利 :CN114586473A ,2022-06-03

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