一种单晶硅片清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010195912.4

申请日：

2020-03-19

公开(公告)号：

CN111613519A

公开(公告)日：

2020-09-01

发明(设计)人：

魏泽武王艺澄王友

申请人：

申请人地址：

212200 江苏省镇江市扬中市经济开发区港隆路968号

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L3118

代理机构：

南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256

代理人：

艾中兰;任立

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-09-25	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20200319
2021-01-01	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):H01L 21/02 变更事项:申请人变更前:江苏高照新能源发展有限公司变更后:江苏美科太阳能科技有限公司变更事项:地址变更前:212200 江苏省镇江市扬中市经济开发区港隆路968号变更后:212200 江苏省镇江市扬中经济开发区光明路198号
2021-11-30	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):H01L 21/02 变更事项:申请人变更前:江苏美科太阳能科技有限公司变更后:江苏美科太阳能科技股份有限公司变更事项:地址变更前:212200 江苏省镇江市扬中经济开发区光明路198号变更后:212200 江苏省镇江市扬中经济开发区光明路198号
2020-09-01	公开	公开

共 50 条

[1]

准单晶硅片清洗方法 [P].

石开明 ;

孙志刚 ;

刘茂华 ;

韩子强 ;

石坚 ;

吴继贤 ;

章建海 .

中国专利 :CN102806216A ,2012-12-05

[2]

单晶硅片碱抛清洗方法 [P].

衣玉林 .

中国专利 :CN109326683A ,2019-02-12

[3]

一种单晶硅片预清洗液及其清洗方法 [P].

高华 ;

戴丽丽 ;

周光华 ;

李杏兵 ;

田怡 .

中国专利 :CN103087850A ,2013-05-08

[4]

单晶硅片清洗装置 [P].

朱玲 ;

朱汪龙 ;

王兰 .

中国专利 :CN206271669U ,2017-06-20

[5]

一种单晶硅片的清洗方法 [P].

张春明 ;

张建伟 ;

王焕俊 .

中国专利 :CN101590476A ,2009-12-02

[6]

一种清洗单晶硅片表面设备 [P].

谭鑫 ;

李鸿邦 ;

付亮 ;

王斗 .

中国专利 :CN117415086A ,2024-01-19

[7]

单晶硅片清洗装置 [P].

曹建鸿 .

中国专利 :CN106955864A ,2017-07-18

[8]

单晶硅片清洗装置 [P].

牛龙 ;

王文 ;

童林剑 ;

张斌 ;

胡亚东 ;

董典谟 ;

樊帅 .

中国专利 :CN203508507U ,2014-04-02

[9]

一种单晶硅片的清洗方法 [P].

杜国平 .

中国专利 :CN105521958A ,2016-04-27

[10]

一种单晶硅片清洗装置 [P].

陈子轩 ;

孔繁政 ;

陈亚男 .

中国专利 :CN218361035U ,2023-01-24

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